【摘要】：成像光譜儀能同時獲取目標的一維光譜信息和二維空間信息(即數據立方體),在軍事偵察、地質領域勘探及海洋污染監(jiān)控等遙感領域有著廣泛的應用。對于成像光譜儀而言,雜散光是其重要的指標參數,會影響微弱目標信息的探測。因此,成像光譜儀雜散光的分析、測量與校正具有重要意義。本文首先概述了國內外成像光譜儀雜散光仿真分析、實驗測量裝置以及雜散光校正方法�；陔s散輻射基礎理論并且結合所研究的成像光譜儀,分析了雜散光的來源,介紹了雜散光的相關抑制措施。然后,基于所研究Offner型成像光譜儀視場不對稱的特點,設計了遮光罩并給出了兩個視場方向上不同入射角度的消光比。根據光學設計要求,進行系統(tǒng)的光機建模,給出了系統(tǒng)的散射路徑。最后,基于陷波法仿真了該成像光譜儀光譜維雜光系數,得到陷波波長633nm處的雜光系數為0.34%,滿足雜光系數≤1%的指標要求。接著,比較了現有的成像光譜儀雜光系數測量方法。根據本文所研究Offner型成像光譜儀的特點,設計了一套基于陷波法的成像光譜儀雜光系數測量裝置,實際測得雜光系數為0.84%;采用GUM法對測量結果的不確定度進行評定,分析了雜散光測量裝置的誤差來源,給出了雜散光的最佳估計值和擴展不確定度。最后,介紹了雜光校正矩陣的原理,利用衰減片擴展了測量裝置的動態(tài)范圍。實驗測出了相關數據并且處理得到雜光校正矩陣,并利用雜光矩陣有效校正該成像光譜儀的雜散光。論文研究工作為成像光譜儀雜散光的研究及高分辨率成像光譜儀的研制提供了技術保障。
【圖文】：

散光的分析、測量與校正 第一章 緒論背景及意義 世紀 80 年代初美國噴氣推進實驗室(JPL)提出成像光譜儀新概念發(fā)生著革命性的變化。成像光譜技術將成像技術和光譜技術結合光學、光譜學、精密機械、電子技術以及計算機技術融合于一體它的基本原理是：在儀器掃描成像的過程中，將成像輻射的波多個波段同時成像，從而獲得同一景物的多個光譜波段的圖像[2]像和光譜分光兩部分組成，前者完成對地物目標的空間成像，后光譜波段分割。兩者有機地結合起來，組成三維“數據立方”，如決了傳統(tǒng)光學成像儀器有像無譜和傳統(tǒng)光譜儀器有譜無像的問題

成像光譜儀雜散光儀雜散光的評價、測量和校正，對于進一步研制高分用。究現狀很多院校、科研單位都對成像光譜儀雜散光的研究工光的仿真分析與理論計算、雜光測量以及雜光的校正。中國科學院空間科學與應用研究中心的杜述松于 200涉成像光譜儀的分析。如圖 1.2 所示的是利用 TracePr過在系統(tǒng)中增加擋光光闌能有效抑制系統(tǒng)中的雜散光比[4]。該成像光譜儀通過光纖將望遠系統(tǒng)和成像系統(tǒng)相散光；整機的機械結構復雜，縫隙處容易漏光，而這
【學位授予單位】：蘇州大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2018
【分類號】：TH744.1

【參考文獻】

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本文編號：2675498