本文關(guān)鍵詞：全息深亞波長(zhǎng)光柵技術(shù)研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

碩士學(xué)位論文 論文題目 全息深亞波長(zhǎng)光柵技術(shù)研究 研究生姓名 周陽(yáng) 指導(dǎo)教師姓名 吳建宏 劉 全 專 業(yè) 名 稱 光學(xué)工程 研 究 方 向 光信息處理技術(shù)與器件 論文提交日期 2015 年5 月 全息深亞波長(zhǎng)光柵技術(shù)研究 摘要 全息深亞波長(zhǎng)光柵技術(shù)研究 摘要 深亞波長(zhǎng)光柵周期遠(yuǎn)小于工作波長(zhǎng)，表現(xiàn)出理想偏振特性，利用深亞波長(zhǎng)光柵的 偏振選擇特性，可以制作用于各個(gè)波段的的金屬光柵偏振器，它的優(yōu)點(diǎn)有：工作波長(zhǎng) 可定制；可集成化和小型化；穩(wěn)定性好等，有著廣闊的應(yīng)用前景。深亞波長(zhǎng)光柵掩模 主要是采用電子束曝光、X 射線光刻等方法制作，這些制作方法的成本高且工藝復(fù)雜， 影響了金屬光柵在各領(lǐng)域大規(guī)模應(yīng)用。相對(duì)于使用電子束曝光、X 射線光刻等技術(shù)制 作的光柵掩模，采用全息光刻技術(shù)制作光柵掩模具有面積大、制作成本低以及工藝簡(jiǎn) 單等優(yōu)點(diǎn)。 本文對(duì)深亞波長(zhǎng)光柵制作技術(shù)進(jìn)行了探索，，將半導(dǎo)體廣泛使用的浸沒(méi)式光刻與全 息光刻結(jié)合，采用全息-浸沒(méi)式光刻制作深亞波長(zhǎng)光柵掩模，并將制作的深亞波長(zhǎng)光 柵掩模應(yīng)用于可見(jiàn)光波段金屬光柵的制作。主要內(nèi)容包括以下幾個(gè)方面： （1）介紹了深亞波長(zhǎng)光柵的意義以及深亞波長(zhǎng)光柵在光偏振領(lǐng)域應(yīng)用的進(jìn)展。 （2 ）使用五種不同的光刻膠，對(duì)光刻膠特性做了深入的研究，分別制作了周期 為575nm、350nm 和240nm 光刻膠光柵掩模，分析了曝光量、顯影時(shí)間、光柵周期 以及不同的光刻膠對(duì)光柵槽形的影響。根據(jù)對(duì)光刻膠特性的研究，采用浸沒(méi)全息曝光 的方法制作了180nm 周期玻璃和金屬基底的深亞波長(zhǎng)光柵掩模。 （3 ）介紹了在分析金屬光柵時(shí)經(jīng)常使用的時(shí)域有限差分法（FDTD ）理論，并將 FDTD 理論應(yīng)用于金屬光柵

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