本文選題：光學(xué)測(cè)量 + 透射波前��； 參考：《光學(xué)技術(shù)》2014年06期

【摘要】：在平行平板類元件透射波前的測(cè)量過程中,在干涉強(qiáng)度圖上有時(shí)會(huì)產(chǎn)生寄生條紋,會(huì)給透射波前的測(cè)量引入較大的誤差。闡述了寄生條紋的產(chǎn)生機(jī)理,仿真分析了寄生條紋對(duì)透射波前測(cè)量誤差的影響,介紹了調(diào)節(jié)移除寄生條紋的方法。對(duì)一平板類透射元件進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)對(duì)比,分別測(cè)量了在具有寄生條紋時(shí)和移除寄生條紋后的透射波前。根據(jù)對(duì)比結(jié)果可以看出,該調(diào)節(jié)方法能有效地消除寄生條紋對(duì)透射波前測(cè)量的影響,使測(cè)量結(jié)果能更真實(shí)地反應(yīng)出元件透射波前的分布。
[Abstract]:During the measurement of the transmission wave before the parallel plate element, the parasitic stripe is sometimes produced on the interference intensity map, which will introduce a large error to the measurement of the transmission wavefront. The mechanism of the parasitic stripe is expounded, the influence of the parasitic stripe on the transmission wavefront measurement error is simulated and analyzed, and the method of adjusting the parasitic stripe is introduced. According to the contrast results, the influence of the parasitic stripe on the transmission wavefront measurement can be effectively eliminated and the measurement results can be more truly reacted to the component of the transmission wavefront of the component. Cloth.
【作者單位】： 中國工程物理研究院激光聚變研究中心;
【分類號(hào)】：TH741

【共引文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：2007572