本文選題：變柵距光柵　切入點：球面波　出處：《發(fā)光學報》2015年09期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：針對應用于50~150 nm波段的變柵距光柵,采用球面波曝光系統(tǒng)進行優(yōu)化設(shè)計,分析了不同寬度光柵的刻槽密度變化和光譜分辨能力。理論分析結(jié)果表明,光柵寬度為4 mm時,理論分辨能力高于14 000;光柵寬度為10 mm時,理論分辨能力約為9 000;光柵寬度為30 mm時,理論分辨能力急劇下降,約為3 000。光柵的寬度越大,其刻槽彎曲程度就越大,光柵的光譜分辨能力就越低,因此球面波曝光系統(tǒng)只適合制作寬度較小的變柵距光柵。
[Abstract]:A spherical wave exposure system is used to optimize the design of a variable-grid grating applied in the 50nm 150 nm band. The groove density and spectral resolution of the grating with different widths are analyzed. The theoretical analysis results show that the grating width is 4 mm. The theoretical resolution is higher than 14,000; when the grating width is 10 mm, the theoretical resolution is about 9,000; when the grating width is 30 mm, the theoretical resolution decreases sharply, about 3,000. The spectral resolution of the grating is lower, so the spherical wave exposure system is only suitable for fabricating the variable-grid grating with smaller width.
【作者單位】： 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所;
【基金】：國家重大科學儀器設(shè)備開發(fā)專項資金(2011YQ120023)資助項目
【分類號】：TH744.1

【參考文獻】

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3 姜巖秀;韓建;李文昊;巴音賀希格;;平面全息光柵曝光系統(tǒng)中的分光器件特性分析[J];中國光學;2015年02期

【共引文獻】

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【二級參考文獻】

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4 李}，

本文編號：1628335