本文關鍵詞：基于X光移動光刻技術的PMMA微透鏡陣列制備　出處：《紅外與激光工程》2016年06期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：微透鏡陣列的制備已經(jīng)成為微光學領域的研究熱點。利用兩次X光移動光刻技術,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)為正光刻膠,在PMMA基板上制造了微透鏡陣列,并對其制作原理進行了詳細說明。設計了制備微透鏡陣列用的掩膜圖形,并通過掩膜圖形模擬仿真,預測了微透鏡在兩次移動曝光顯影后的形狀。第一次X光移動光刻后,理論上會得到半圓柱狀三維結構;第一次光刻后將掩膜板旋轉(zhuǎn)90°,進行第二次移動曝光光刻,最終在PMMA基板上制備了面積為10 mm×10 mm的30×30個微透鏡陣列,陣列中每個微透鏡的直徑約248μm、厚度約82μm。同時也研究了X光曝光量與PMMA刻蝕深度之間的關系。微透鏡陣列形貌測試表明此種制備微透鏡陣列的新方法是可行的。
【作者單位】： 上海應用技術大學理學院;日本立命館大學微系統(tǒng)系;
【基金】：國家自然科學基金(51035005) 上海應用技術學院光電精密檢測平臺建設項目(10210Q140005);上海應用技術學院引進人才啟動基金(YJ2014-03)
【分類號】：TH74
【正文快照】： 0引言光學成像透鏡,作為光學系統(tǒng)的重要元件之一,在天文、軍事、交通、醫(yī)學、藝術等領域扮演著重要角色。隨著科技的進步和發(fā)展,光學系統(tǒng)體積逐漸向小型化和集成化方向發(fā)展,體積較大、結構較復雜的傳統(tǒng)透鏡已不滿足要求,而縮小透鏡尺寸而制備出微透鏡和微透鏡陣列順應了光學系

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本文編號：1322144