本文關(guān)鍵詞：氣囊拋光過程的運(yùn)動(dòng)精度控制

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【摘要】：針對用于球面、非球面光學(xué)元件超精密光學(xué)加工的氣囊拋光技術(shù),提出了一套控制拋光過程中氣囊運(yùn)動(dòng)精度的方法。該方法通過控制加工單元的溫度,保證拋光過程中設(shè)備運(yùn)動(dòng)精度達(dá)到50μm;使用坐標(biāo)傳遞法,使檢測數(shù)據(jù)二維方向?qū)?zhǔn)不確定度達(dá)到0.30~0.70mm。另外,基于磨頭去除量估計(jì)與反饋修正法,提高精拋過程面形誤差收斂效率。最后,通過磨頭探測校準(zhǔn)法,將磨頭與加工工件法向位置精度提高至10μm。實(shí)際拋光實(shí)驗(yàn)顯示:使用運(yùn)動(dòng)精度控制法在280mm口徑的平面精密拋光中獲得的面形加工精度為0.8nm(RMS),在160mm口徑的凹球面精密拋光中獲得的面形加工結(jié)果為1.1nm(RMS),實(shí)現(xiàn)了超高精度面形修正的目的,為超高精度球面、非球面光學(xué)元件加工提供了一套行之有效的方法。該方法同樣適用于其他接觸式小磨頭數(shù)控拋光方法。
【作者單位】： 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所應(yīng)用光學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室超精密光學(xué)工程研究中心;
【基金】：國家科技重大專項(xiàng)資助項(xiàng)目(No.2009ZX02205)
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 1引言隨著科技的發(fā)展,超精密光學(xué)元件在光學(xué)、電子、航空航天等諸多領(lǐng)域中的應(yīng)用日益廣泛,并且對光學(xué)元件的全頻段面形精度要求越來越高,尤其在深紫外與極紫外高精度光學(xué)成像系統(tǒng)中,單個(gè)光學(xué)鏡片的面形精度已要求達(dá)到納米、亞納米量級(jí)。同時(shí),由于非球面光學(xué)元件具有可以減少系

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本文編號(hào)：1295050