本文關(guān)鍵詞：光柵刻劃?rùn)C(jī)衍射波前質(zhì)量的主動(dòng)控制校正方法

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【摘要】：衍射波前質(zhì)量是刻劃光柵的重要性能指標(biāo)之一,對(duì)于機(jī)械刻劃光柵,刻劃?rùn)C(jī)的刻線定位精度直接影響光柵的波前質(zhì)量。建立了刻劃?rùn)C(jī)固有存在的刻線位置和轉(zhuǎn)角誤差與光柵衍射波前誤差間的數(shù)學(xué)關(guān)系,分析了各誤差對(duì)衍射波前質(zhì)量的影響。針對(duì)該誤差設(shè)計(jì)了一種基于雙頻激光干涉測(cè)量的刻劃?rùn)C(jī)刻線位置和轉(zhuǎn)角誤差測(cè)量的光路,并提出了一種主動(dòng)控制技術(shù),即采用單壓觸動(dòng)器校正刻線位置和轉(zhuǎn)角誤差的方法。根據(jù)該校正方法設(shè)計(jì)了刻劃?rùn)C(jī)的雙層光柵承載工作臺(tái)結(jié)構(gòu),并進(jìn)行了尺寸為80 mm×60 mm、刻線密度為194 line/mm的光柵刻劃實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,刻劃光柵的衍射波前誤差由0.23λ降低至0.093λ(λ=632.8 nm),并且原子力顯微鏡測(cè)試光柵刻槽質(zhì)量符合理論設(shè)計(jì)要求。
【作者單位】： 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所;中國(guó)科學(xué)院大學(xué);
【基金】：國(guó)家973計(jì)劃(2014CB049500) 國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目(ZDYZ2008-1) 吉林省重大科技攻關(guān)項(xiàng)目(09ZDGG005)
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 1引言光柵是一種分光元件,廣泛應(yīng)用于各類光譜儀器中[1-2],光柵的光譜性能直接影響光譜儀的光譜解析能力,而光柵的波前質(zhì)量直接決定了光柵的光譜線質(zhì)量和分辨本領(lǐng)。作為制作刻劃光柵的衍射光柵刻劃?rùn)C(jī)由刻劃系統(tǒng)和分度系統(tǒng)組成[3-4]�？虅澫到y(tǒng)主要由鞍型滑塊(帶動(dòng)刀架系統(tǒng)做往

【參考文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前6條

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中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

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【共引文獻(xiàn)】

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3 尹志生;崔洋;徐立松;李佩s，

本文編號(hào)：1247854