高精度標(biāo)準(zhǔn)鏡支撐結(jié)構(gòu)的研究與設(shè)計(jì)
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【摘要】:為了保證高精度光學(xué)元件面形檢測(cè)精度,必須對(duì)干涉儀標(biāo)準(zhǔn)鏡自身的面形精度進(jìn)行嚴(yán)格控制。在考慮標(biāo)準(zhǔn)鏡自重的情況下,采用有限元方法研究了不同膠點(diǎn)數(shù)量及分布形式、不同的鏡框支撐方式對(duì)參考面面形精度的影響。根據(jù)研究結(jié)果,針對(duì)球面標(biāo)準(zhǔn)鏡面形精度要優(yōu)于λ/40的要求,設(shè)計(jì)了口徑準(zhǔn)150mm的標(biāo)準(zhǔn)鏡的支撐方式,采用12×3點(diǎn)膠接、鏡框底面六點(diǎn)的撓性支撐方式,經(jīng)有限元分析得到:參考面面形的PV值為7.36 nm,RMS值為1.52 nm;并驗(yàn)證了溫度變形較自重變形很小。結(jié)果表明,各項(xiàng)指標(biāo)滿足設(shè)計(jì)要求,證明了結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的合理性。
【作者單位】: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所;中國(guó)科學(xué)院大學(xué);
【基金】:中國(guó)科學(xué)院“三期”創(chuàng)新工程
【分類號(hào)】:TH74
【正文快照】: 0引言現(xiàn)代高精度光學(xué)儀器的快速發(fā)展不僅對(duì)光學(xué)透鏡的設(shè)計(jì)、加工、裝配及調(diào)校提出了越來(lái)越高的要求,對(duì)光學(xué)元件的檢測(cè)要求也越來(lái)越高,尤其是微電子光刻技術(shù)即深紫外短波長(zhǎng)光刻技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用,其光學(xué)元件的精度達(dá)到納米量級(jí)[1]。而干涉儀是現(xiàn)代光學(xué)元件檢測(cè)的常用儀器,它是利
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