超精密表面形貌光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)
本文關(guān)鍵詞:超精密表面形貌光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)
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【摘要】:為了解決實(shí)際測(cè)量中單一測(cè)量方法存在的局限性,結(jié)合白光干涉測(cè)量技術(shù)與共聚焦測(cè)量技術(shù),通過緊湊型部分共光路結(jié)構(gòu)原則,設(shè)計(jì)并搭建了一套超精密表面形貌光學(xué)測(cè)量系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)微納米幾何形貌的三維重構(gòu)與測(cè)量。基于C#語(yǔ)言與DirectX11開發(fā)組件,開發(fā)了上位機(jī)執(zhí)行軟件,實(shí)現(xiàn)了兩種光學(xué)測(cè)量模式下硬件的協(xié)調(diào)控制及納米標(biāo)準(zhǔn)樣板表面形貌的三維重構(gòu)。對(duì)臺(tái)階高度標(biāo)定值為(98.8±0.6)nm的臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣板進(jìn)行測(cè)量,實(shí)驗(yàn)表明:用白光干涉測(cè)量模式和共聚焦測(cè)量模式分別實(shí)現(xiàn)了對(duì)臺(tái)階樣板的大范圍快速測(cè)量和小范圍精密測(cè)量,10次測(cè)量的平均值分別為100.5和99.8 nm,標(biāo)準(zhǔn)差均小于2 nm,說明該系統(tǒng)能較好地滿足微納器件超精密表面形貌測(cè)量的要求。
【作者單位】: 中國(guó)計(jì)量大學(xué);上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院;
【基金】:國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51475335) 國(guó)家重大儀器專項(xiàng)資助項(xiàng)目(2014YQ090709)
【分類號(hào)】:TH74
【正文快照】: 0引言隨著微電子技術(shù)、微機(jī)械技術(shù)和微光學(xué)技術(shù)的快速發(fā)展,制造技術(shù)不斷向著超大尺寸制造以及極小尺寸制造兩個(gè)極端方向發(fā)展。為了適應(yīng)這一發(fā)展趨勢(shì),超精密表面形貌測(cè)量?jī)x在具備較高的橫向分辨率和縱向分辨率的同時(shí)應(yīng)具備較大的測(cè)量范圍。顯然,單一功能的儀器已經(jīng)無(wú)法滿足當(dāng)下
【相似文獻(xiàn)】
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,本文編號(hào):1167555
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