本文關(guān)鍵詞：一種評價CCOS拋光工藝誤差抑制能力的方法

  更多相關(guān)文章： 光學(xué)加工 平滑譜函數(shù) 功率譜密度 中高頻誤差 卷積模型

【摘要】：結(jié)合光學(xué)加工中材料去除的卷積模型和功率譜密度函數(shù),建立了描述CCOS拋光工藝抑制不同頻段誤差能力的數(shù)學(xué)模型——平滑譜函數(shù).利用Rigid Conformal磨盤拋光620mm口徑微晶平面玻璃,通過計算平滑譜函數(shù)曲線,將CCOS拋光工藝抑制不同頻段誤差的能力表示為歸一化且無量綱的頻譜曲線.計算結(jié)果表明平滑譜函數(shù)曲線能以數(shù)值大小評價CCOS拋光工藝對不同頻率誤差的抑制能力.
【作者單位】： 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所;中國科學(xué)院大學(xué);
【關(guān)鍵詞】： 光學(xué)加工 平滑譜函數(shù) 功率譜密度 中高頻誤差 卷積模型
【基金】：國家自然科學(xué)基金(61378054)資助
【分類號】：TH74;TG580.692
【正文快照】： 0引言現(xiàn)代光學(xué)制造工程具有顯著的極端制造特征,即在極端技術(shù)條件要求的背景下,制造極端尺度、極高功能器件或功能系統(tǒng)的大科學(xué)工程[1].我國目前正面臨著完成大口徑望遠(yuǎn)鏡系統(tǒng)、納米尺度光刻系統(tǒng)和高功率激光系統(tǒng)等典型極端光學(xué)研制工程的任務(wù).在極端光學(xué)系統(tǒng)中,光學(xué)元件表面

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本文編號：1112475