發(fā)布時間：2017-10-21 20:17

  本文關鍵詞：投影光刻物鏡波像差的公差分析方法

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【摘要】：為保證投影光刻物鏡的成像性能并降低制造成本,提出了一種更全面可靠的公差分析方法。該方法在以波像差均方根(RMS)值作為評價標準的傳統(tǒng)分析方法基礎上,添加波像差峰谷(P-V)值作為評價指標,并據此選擇合理的補償器組合。在系統(tǒng)波像差的RMS值和P-V值均滿足要求的情況下,采用了較少的補償器,從而有效地降低了系統(tǒng)的制造難度和成本。結合實驗室設計的一套90nm投影光刻物鏡進行了公差分析和補償器優(yōu)選。結果表明,利用該方法選擇的7個補償器,使得系統(tǒng)在97.7%置信區(qū)間內,全視場波像差的RMS值≤0.0412λ,P-V值≤0.2469λ,滿足了90nm投影光刻物鏡的像質要求。
【作者單位】： 北京理工大學光電學院光電成像技術與系統(tǒng)教育部重點實驗室;
【關鍵詞】： 成像光學 公差分析 波像差 投影光刻物鏡 補償器
【基金】：國家科技重大專項 國家自然基金重點項目(60938003) 北京高等學校青年英才計劃項目資助課題
【分類號】：TH74
【正文快照】： 0引言材料、加工和裝配等誤差會嚴重影響投影光刻物鏡的實際成像質量[1],因此除了在物鏡設計階段盡可能地提高像質,還需要在實際制造過程中嚴格控制每項公差。但過于嚴格的公差會增加制造難度982和成本,甚至無法實現(xiàn)加工制造。因此,需要通過公差分析,添加像質補償元件來放松公

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本文編號：1075069