本文關鍵詞：大口徑光學元件磁流變加工駐留時間求解算法

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【摘要】：為了解決大口徑光學元件磁流變高精度加工問題,基于矩陣運算模型,提出了SBB(Subspace Barzilai and Borwein)最小非負二乘與自適應Tikhonov正則化相結合的駐留時間快速求解方法。同時,在一次收斂中采用雙去除函數優(yōu)化螺旋線軌跡下光學元件的加工,保證中心區(qū)域與全口徑面形精度一致。仿真表明該算法與常用Lawson-Hanson最小非負二乘法相比,計算精度一致且求解效率大幅提高。對Φ600mm以彗差為主的光學表面模擬加工,峰谷(PV)值和均方根(RMS)值從初始的2.712λ與0.461λ中心區(qū)域全局一致收斂到0.306λ和0.0199λ(λ=632.8nm)。因此,提出的算法能夠在有效保證面形收斂精度的同時快速獲得穩(wěn)定可靠的駐留時間分布,為磁流變拋光應用于大口徑光學元件提供有力支持。
【作者單位】： 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所;中國科學院大學;
【關鍵詞】： 光學制造 駐留時間 矩陣運算 全局收斂 磁流變拋光
【基金】：國家自然科學基金(61036015)
【分類號】：TH74
【正文快照】： 1引言磁流變拋光(MRF)是一種高效確定性的光學加工工藝[1],具有去除函數穩(wěn)定、下表面破壞層小、邊緣效應小,無復印效應、加工精度高及修形能力強0522001-1等諸多優(yōu)點[2-7]。因此,磁流變拋光在高精度光學表面加工中有著廣泛的應用。但是磁流變拋光實際應用于大口徑光學表面的加

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本文編號：1050004