基于等效介質(zhì)理論的目標(biāo)電磁散射高頻方法
發(fā)布時(shí)間:2023-10-21 16:37
自雷達(dá)問(wèn)世并不斷發(fā)展以來(lái),對(duì)復(fù)雜目標(biāo)的電磁散射特性進(jìn)行計(jì)算分析一直是電磁領(lǐng)域的一個(gè)重要研究方向。而在分析電大目標(biāo)的電磁散射特性時(shí),高頻方法具有計(jì)算的算法簡(jiǎn)單、計(jì)算速率快并且占用計(jì)算內(nèi)存小等特點(diǎn),因此相比數(shù)值方法,高頻方法以其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)更加適用于對(duì)電大目標(biāo)進(jìn)行計(jì)算分析。本文主要研究?jī)?nèi)容如下:(1)闡述了雷達(dá)散射截面(Radar Cross Section-RCS)的定義,分析了各類電磁散射計(jì)算方法的優(yōu)缺點(diǎn)及國(guó)內(nèi)外的研究現(xiàn)狀,介紹了物理光學(xué)法、彈跳射線法的基本概念并推導(dǎo)了詳細(xì)的計(jì)算過(guò)程,為計(jì)算研究奠定了理論基礎(chǔ)。(2)針對(duì)涂敷介質(zhì)電大目標(biāo),本文采用高頻方法結(jié)合等效介質(zhì)理論計(jì)算電磁散射特性。對(duì)介質(zhì)部分的電磁建模,提出了運(yùn)用等效介質(zhì)理論來(lái)對(duì)介質(zhì)部分進(jìn)行等效處理,通過(guò)參數(shù)反演將非均勻或多層介質(zhì)等效為單層均勻介質(zhì),簡(jiǎn)化了建模與計(jì)算過(guò)程。(3)針對(duì)物理光學(xué)方法在計(jì)算過(guò)程中存在的不足,引入了棱邊繞射理論加以改進(jìn),在物理光學(xué)方法計(jì)算結(jié)果的基礎(chǔ)上加入了棱邊繞射對(duì)目標(biāo)電磁散射產(chǎn)生的貢獻(xiàn),提高了計(jì)算的精度。通過(guò)介質(zhì)面元的電磁散射計(jì)算方法對(duì)介質(zhì)部分的RCS進(jìn)行計(jì)算,最終完成對(duì)涂敷介質(zhì)電大目標(biāo)的系統(tǒng)化計(jì)算。建立模...
【文章頁(yè)數(shù)】:65 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 研究背景及意義
1.2 國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀
1.3 本文研究?jī)?nèi)容及結(jié)構(gòu)安排
第二章 基本原理
2.1 雷達(dá)散射截面
2.2 物理光學(xué)近似解
2.3 彈跳射線法
2.3.1 射線路徑追蹤
2.3.2 射線強(qiáng)度追蹤
2.3.3 遠(yuǎn)場(chǎng)積分
2.4 本章小結(jié)
第三章 基于介質(zhì)等效理論的等效驗(yàn)證
3.1 引言
3.2 等效介質(zhì)理論
3.3 等效數(shù)值算例
3.3.1 單層非均勻介質(zhì)等效
3.3.2 多層介質(zhì)等效
3.4 本章小結(jié)
第四章 涂敷介質(zhì)電大目標(biāo)的電磁散射計(jì)算
4.1 引言
4.2 棱邊繞射理論
4.3 涂覆多層介質(zhì)面元的散射
4.4 算例分析
4.4.1 理想導(dǎo)體的RCS計(jì)算
4.4.2 考慮棱邊繞射的RCS計(jì)算
4.4.3 涂敷等效介質(zhì)的RCS計(jì)算
4.5 本章小結(jié)
第五章 總結(jié)與展望
5.1 總結(jié)
5.2 今后研究工作展望
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士期間取得的研究成果
本文編號(hào):3856216
【文章頁(yè)數(shù)】:65 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 研究背景及意義
1.2 國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀
1.3 本文研究?jī)?nèi)容及結(jié)構(gòu)安排
第二章 基本原理
2.1 雷達(dá)散射截面
2.2 物理光學(xué)近似解
2.3 彈跳射線法
2.3.1 射線路徑追蹤
2.3.2 射線強(qiáng)度追蹤
2.3.3 遠(yuǎn)場(chǎng)積分
2.4 本章小結(jié)
第三章 基于介質(zhì)等效理論的等效驗(yàn)證
3.1 引言
3.2 等效介質(zhì)理論
3.3 等效數(shù)值算例
3.3.1 單層非均勻介質(zhì)等效
3.3.2 多層介質(zhì)等效
3.4 本章小結(jié)
第四章 涂敷介質(zhì)電大目標(biāo)的電磁散射計(jì)算
4.1 引言
4.2 棱邊繞射理論
4.3 涂覆多層介質(zhì)面元的散射
4.4 算例分析
4.4.1 理想導(dǎo)體的RCS計(jì)算
4.4.2 考慮棱邊繞射的RCS計(jì)算
4.4.3 涂敷等效介質(zhì)的RCS計(jì)算
4.5 本章小結(jié)
第五章 總結(jié)與展望
5.1 總結(jié)
5.2 今后研究工作展望
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士期間取得的研究成果
本文編號(hào):3856216
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