在計(jì)算與隨機(jī)粗糙面有關(guān)的散射問題時(shí),數(shù)值方法都具有很好的計(jì)算精度,但是隨著目標(biāo)計(jì)算未知量的增加,這些方法對(duì)計(jì)算資源的需求就變大,因而降低了計(jì)算效率。本文主要分為以下幾個(gè)內(nèi)容:根據(jù)粗糙面滿足的不同條件分析了隨機(jī)粗糙面電磁散射的幾種解析近似方法,如KA、SPM、SSA;對(duì)于隨機(jī)粗糙面與上方目標(biāo)復(fù)合模型的電磁散射,先將粗糙面看成是無限大平面利用半空間格林函數(shù)分析上方目標(biāo)的散射;而實(shí)際情況下,粗糙面是有起伏高度的,之后基于粗糙面格林函數(shù)利用PO法分析隨機(jī)粗糙面與目標(biāo)復(fù)合散射;由于粗糙面格林函數(shù)計(jì)算比較費(fèi)時(shí),最后在小斜率近似的基礎(chǔ)上分析復(fù)合目標(biāo)電磁散射,提高計(jì)算速度。最后從傳統(tǒng)的掃頻掃角中獲得目標(biāo)單站散射場(chǎng)數(shù)據(jù)進(jìn)行二維ISAR成像。對(duì)于隨機(jī)粗糙金屬物體電磁散射特性建模及成像分析。首先對(duì)簡(jiǎn)單隨機(jī)粗糙標(biāo)準(zhǔn)體目標(biāo)進(jìn)行建模及計(jì)算;之后對(duì)實(shí)際復(fù)雜且電大尺寸隨機(jī)粗糙體目標(biāo),將目標(biāo)散射分為相干和非相干散射,利用粗糙面散射理論分析目標(biāo)表面微結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)復(fù)雜隨機(jī)粗糙體目標(biāo)散射;最后將隨機(jī)粗糙體目標(biāo)散射與成像結(jié)合,應(yīng)用SBR在小角度、雙站近似以及解析成像公式下對(duì)復(fù)雜隨機(jī)粗糙體目標(biāo)進(jìn)行二維ISAR成像。 

【文章來源】：南京理工大學(xué)江蘇省 211工程院校

【文章頁數(shù)】：76 頁

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

1THz波段在電磁波譜中的位置

（ｃ）Ｓ?＝?０．２ｍ，／ｖ?＝?ｌｖ?＝?０．６ｍ??圖２．２．】不同均方根高度、不同表面相關(guān)長度的粗糙面俯視圖??面散射的解析近似方法??散射相關(guān)理論是建立在海面電磁散射模型的基礎(chǔ)上，然而因?yàn)橐?guī)則性，電磁波照射到隨機(jī)粗糙刖上與粗糙面發(fā)生作用之后得到解析來表示，而只能在一定的假定條件下得出近似解??近似??理粗糙表面電磁散射問題的最為常見的－種近似方法。它應(yīng)用了為粗糙面上任意一點(diǎn)的場(chǎng)強(qiáng)都可以由這－點(diǎn)上的切平面反射波來?xiàng)l件下，能夠假定粗糙表面上某點(diǎn)的總場(chǎng)強(qiáng)是由入射場(chǎng)和與這點(diǎn)反射場(chǎng)之和來表示的ｆ３５Ｌ?ＫＡ在計(jì)算隨機(jī)粗糙面散射時(shí)有個(gè)限定以表示，即：??；２?「?２＾２、??２．—

Ｅｓ?－＾＾ｘｆ?［ｎ?ｘ?Ｅ（ｒ＇）?－?ｘ?（ｎ?ｘ?／／（，－＇））］?ｅｊｔｋ＾?）ｒ＇ｄＳＡｎ＼ｒ?－ｒ?＼?Ｊｓ??卜乂，＾丄，＆是場(chǎng)源點(diǎn)之間的距離，Ａ：，＋和眾分Ｖ?－?ｒ?］?Ｒ０??位方向矢量，＜為自由空間中的波數(shù)，為媒質(zhì)的本征阻抗。??法??年代后期，計(jì)算粗糙面電磁散射問題的另一經(jīng)典方法－微擾法開始法認(rèn)為電磁波入射到粗糙表面上之后，粗糙表面就會(huì)散射出不同，散射場(chǎng)可由遠(yuǎn)離邊界而傳播的不同振幅的平面波相加而成，然后界條件以及微分關(guān)系，可以得到不同平面波的振幅。微擾法適用入射波波長小和均方根斜率遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于１的情形，適合較小尺度粗與ＫＡ—樣具有限定條件，用數(shù)學(xué)表達(dá)式表示是：??Ａ＾＜０．３，?＾Ｓ／Ｉ?＜０．３長度為Ｌ的微粗糙表面／（ｒ）滿足均值為０，其上半空間ｚ?＞?／（ｒ）是電常數(shù)為１，下半空間ｚ＾／（ｒ）的相對(duì)介電常數(shù)為如圖２．３．１所


本文編號(hào)：3574575