為了研究靜/動態(tài)刻蝕過程中熔石英表面質量和抗激光損傷性能的演變規(guī)律,優(yōu)化化學刻蝕工藝,使用HF酸緩沖液對熔石英分別進行了不同時間的靜/動態(tài)刻蝕處理。實驗表明,由于兆聲場輔助攪拌作用,熔石英動態(tài)刻蝕的刻蝕速率快于靜態(tài)刻蝕。動態(tài)刻蝕后熔石英表面均方根（RMS）粗糙度和反射面形分別為<1nm和0.46λ,其3倍頻透射率先小幅增加后保持穩(wěn)定,相比初始表面增加約0.1%。而靜態(tài)刻蝕使得表面RMS粗糙度和反射面形分別增加至⁵nm和0.82λ,其3倍頻透射率先基本不變后下降,相比初始表面下降約0.4%。二者損傷閾值呈現明顯不同變化規(guī)律:靜態(tài)刻蝕使熔石英損傷閾值先小幅增加約30%后逐漸降低,動態(tài)刻蝕使熔石英損傷閾值增加近一倍后保持相對穩(wěn)定。結果表明,動態(tài)刻蝕后熔石英光學元件性能明顯優(yōu)于靜態(tài)刻蝕。 

【文章來源】：應用光學. 2017,38(05)北大核心CSCD

【文章頁數】：7 頁

【文章目錄】：
引言
1 實驗過程
2 HF酸刻蝕原理
3 實驗結果與分析
    3.1 刻蝕速率
    3.2 表面粗糙度與反射面形
    3.3 透射率
    3.4 抗激光損傷性能
4結論


【參考文獻】：
期刊論文
[1]光學元件兆聲輔助化學刻蝕工藝參數優(yōu)化[J]. 王洪祥,李成福,周巖,袁志剛,徐曦,鐘波.  強激光與粒子束. 2015(11)
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碩士論文
[1]酸蝕刻熔石英過程中再沉積物形成機理研究[D]. 殷玉春.西南科技大學 2016



本文編號：3504146