隨著通信技術(shù)的發(fā)展,各類電子通信設(shè)備在功能上和結(jié)構(gòu)上都更加多樣化,電磁波頻譜的需求也日益劇增,且工作頻率也向著更高的頻率擴(kuò)展�；诰植啃越魄也豢紤]目標(biāo)之間相互耦合作用的高頻方法是分析電大目標(biāo)的電磁散射特性的主要手段。首先,本文對高頻方法中常用的物理光學(xué)方法和彈跳射線方法的基本原理進(jìn)行了論述,其次使用這兩種方法對具有單次和多次反射結(jié)構(gòu)的電大金屬目標(biāo)的雷達(dá)散射截面進(jìn)行了研究。在此基礎(chǔ)上,研究了高頻方法在金屬和介質(zhì)混合目標(biāo)主要是金屬表面覆蓋介質(zhì)情況的電磁散射特性分析中的應(yīng)用。對于多層均勻薄介質(zhì)涂覆的情況,利用廣義反射系數(shù)求解介質(zhì)表面反射總場,再利用物理光學(xué)方法即可求出多層介質(zhì)涂覆目標(biāo)的雷達(dá)散射截面。當(dāng)金屬表面涂覆不均勻厚度介質(zhì)以及非均勻介質(zhì)目標(biāo)時,提出了一種基于四面體剖分的彈跳射線方法,該方法除了考慮射線在目標(biāo)表面的多次反射之外,還考慮了透射射線在介質(zhì)內(nèi)部的傳播,最后求出目標(biāo)總的散射場。通過一組算例對該方法的正確性進(jìn)行了驗證,拓展了彈跳射線方法在實(shí)際工程中的適用性。另外,還研究了高頻方法在逆合成孔徑雷達(dá)（ISAR）成像中的應(yīng)用,分析了目標(biāo)的遠(yuǎn)區(qū)散射場與其形狀函數(shù)之間的關(guān)系。針對傳統(tǒng)的成像過... 

【文章來源】：南京理工大學(xué)江蘇省 211工程院校

【文章頁數(shù)】：70 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

1目標(biāo)表面電磁散射

ｎｘＥ?＝?０??－．－７７?Ｘ?／／?＝?２？?Ｘ?／／．??，為ＰＥＣ表面的入射磁場。??，用目標(biāo)表面感應(yīng)電流和感應(yīng)磁流計算遠(yuǎn)區(qū)散射場，相應(yīng)的表達(dá)Ｍ?＝Ｅｘｎ??于理想導(dǎo)體，其表面感應(yīng)電流和磁流為：??ＭＰＯ＝Ｅｘｆ，?＝?〇ｊ２，）ｘ砍亮區(qū)??Ｊｐ〇ｉ〇?暗區(qū)．７）和式（２＿３＿８）帶入式（２．３＿４），可推導(dǎo)出金屬表面Ｐ０遠(yuǎn)場散射公式Ｅｓ?＝?ｊｋＺｆ?ＪＫ，ＪＪ?Ｓｘ（ｓｘＪｐ〇）ｅ＾＇ｄＳ??？Ａ／．的Ｓ表示照明面，物體表面被入射波照射部分的場非零，而沒有此，通常將物體表面分為亮區(qū)和暗區(qū)。??

電大尺寸目標(biāo)的ａ頻方法電磁散射特用物理光學(xué)方法計算之前需要對目標(biāo)表目標(biāo)表面遮擋判別是物理光學(xué)方法前處面片進(jìn)行一個遮擋判別。如果目標(biāo)表面磁流，總場不為零，定義為亮區(qū)；反之，射場。??個多邊形面元（如三角形、四邊形等）來射電磁波照射到面元上時看面元是否被和多重遮擋。??外形結(jié)構(gòu)較為簡單的目標(biāo)，通過剖分面

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]隱身導(dǎo)彈與隱身技術(shù)的應(yīng)用[J]. 許學(xué)春.  飛航導(dǎo)彈. 2013(05)
[2]三維電大目標(biāo)散射求解的多層快速多極子方法[J]. 胡俊,聶在平,王軍,鄒光先,胡頡.  電波科學(xué)學(xué)報. 2004(05)
[3]圓錐體與圓柱體的幾何繞射理論繞射線尋跡[J]. 宗衛(wèi)華,梁昌洪,曹祥玉,項鐵銘.  西安電子科技大學(xué)學(xué)報. 2002(04)
[4]介質(zhì)涂敷導(dǎo)電凸曲面上磁振子輻射場一致性幾何繞射理論[J]. 柯亨玉,侯杰昌.  電子學(xué)報. 1999(03)



本文編號：3351561