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面向光學三維測量的非均勻條紋生成方法

發(fā)布時間:2019-10-09 05:38
【摘要】:針對投影條紋間距比較小和被測表面法向處于變化范圍較大的狀態(tài)時局部條紋形變嚴重、分布密集,甚至出現(xiàn)條紋間重疊干涉現(xiàn)象,導致相位求解、條紋中心提取等方法失效的問題,提出了一種非均勻投影條紋生成算法。先利用投影均勻條紋到被測物體上,對相機采集圖像中局部條紋分布密集的區(qū)域進行相位梯度調(diào)整,再運用反向條紋投影原理計算出非均勻投影條紋。對投影均勻條紋和非均勻條紋到被測物體表面進行光學三維測量,仿真和實驗結果表明:當測量精度均達到50μm時,投影均勻條紋測量時有7.2%的數(shù)據(jù)點丟失,投影非均勻條紋時僅有0.24%的數(shù)據(jù)點丟失,基本上解決了局部條紋變形嚴重、分布密集導致點云丟失的問題,從而保證測量數(shù)據(jù)的可靠性。
【作者單位】: 西安交通大學機械工程學院;
【基金】:國家自然科學基金資助項目(51375377)
【分類號】:O439

【參考文獻】

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【共引文獻】

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【二級參考文獻】

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本文編號:2546625

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