【摘要】：以圓柱形磁控濺射裝置為研究對象,下極板外接通電線圈使之產(chǎn)生的磁場,并在上、下極板間施加直流電場,研究電磁場作用下等離子體中電子、離子、中性粒子和亞穩(wěn)態(tài)離子分布。研究以Fortran語言自主編程,對所建立的模型用有限差分方法數(shù)值模擬。研究表明:輝光放電起始,電離項為等離子體中離子的主要來源;隨著輝光放電趨于平衡,由一次電離、激發(fā)態(tài)二次電離等組成的累積電離項成為等離子體中離子的主體。達到穩(wěn)定電離后,電子受磁場約束集中分布于下極板附近,從而使被電離的離子也集中分布于下極板附近。在距下極板15~40 cm區(qū)間內(nèi),離子分布較均勻。
[Abstract]:Taking the cylindrical magnetron sputtering device as the research object, the magnetic field produced by the external electrified coil of the lower pole plate is studied, and the direct current field is applied between the upper and lower poles to study the electron and ion in the plasma under the action of the electromagnetic field. Distribution of neutral particles and metastable ions. In this paper, the model is simulated by finite difference method in Fortran language. The results show that the ionization term is the main source of ions in the plasma, and the accumulated ionization term consisting of the primary ionization and the excited secondary ionization becomes the main ion in the plasma with the glow discharge tending to equilibrium. After stable ionization, the electrons are confined by magnetic field and distributed near the lower polar plate, so that the ionized ions are also concentrated near the lower polar plate. In the range of 15 ~ 40 cm, the ion distribution is uniform.
【作者單位】： 遼寧科技大學表面工程研究所;
【基金】：國家自然科學基金項目(51372109,51672119);國家自然科學基金青年基金項目(51502126) 遼寧省科技廳(601009817-01) 遼寧科技大學大學生創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)項目(201610146010)
【分類號】：O53

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本文編號：2220027