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斜入射微結(jié)構(gòu)高度誤差的優(yōu)化設(shè)計(jì)

發(fā)布時(shí)間:2018-02-15 08:06

  本文關(guān)鍵詞: 衍射 衍射光學(xué)元件 衍射效率 微結(jié)構(gòu)高度誤差 出處:《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》2017年06期  論文類型:期刊論文


【摘要】:基于衍射效率與入射角度的表達(dá)式和正入射時(shí)微結(jié)構(gòu)高度誤差與衍射效率的表達(dá)式,建立了斜入射時(shí)衍射光學(xué)元件(DOEs)的微結(jié)構(gòu)高度誤差與衍射效率和帶寬積分平均衍射效率(PIDE)的數(shù)學(xué)關(guān)系。當(dāng)相對(duì)微結(jié)構(gòu)高度誤差的絕對(duì)值相等時(shí),負(fù)相對(duì)微結(jié)構(gòu)高度誤差高于正相對(duì)微結(jié)構(gòu)高度誤差對(duì)應(yīng)的衍射效率和帶寬積分平均衍射效率。該分析方法和結(jié)論為衍射光學(xué)元件的微結(jié)構(gòu)高度加工公差的制定提供了理論參考。
[Abstract]:Based on the expression of diffraction efficiency and incidence angle, and the expression of height error of microstructure and diffraction efficiency under normal incidence, The mathematical relation between the height error of microstructure and the diffraction efficiency and the average diffraction efficiency of bandwidth integral is established. When the absolute value of the relative height error of microstructure is equal, The negative relative microstructural height error is higher than the diffraction efficiency and the bandwidth integral average diffraction efficiency corresponding to the positive relative microstructural height error. The analytical method and conclusion provide a theoretical reference for the formulation of the microstructural height machining tolerance of diffractive optical elements.
【作者單位】: 鹽城師范學(xué)院新能源與電子工程學(xué)院;
【基金】:國(guó)家自然科學(xué)基金(11604289) 江蘇省高校自然科學(xué)研究基金(16KJD140001)
【分類號(hào)】:O436.1

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本文編號(hào):1512816

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