本文關鍵詞： 光學設計 光柵 掃描干涉場曝光 光束對準 曝光對比度 位置解耦 角度解耦　出處：《光學學報》2017年07期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：為了提升掃描干涉場曝光光束對準精度,保證制作的光柵掩模槽形的質量,建立了曝光光束對準誤差模型,利用模型對光束對準誤差進行了分析。同時為了滿足系統(tǒng)對光束重疊精度的要求,設計研制了光束自動對準系統(tǒng),并對曝光光束進行了對準實驗。分析結果表明,當光束存在較大對準誤差時,光柵基底表面曝光對比度大幅下降,而且由于采用步進掃描的曝光方式,光刻膠表面出現(xiàn)了各處曝光不均勻的現(xiàn)象,影響光柵掩模槽形的質量。設計的對準系統(tǒng)可以對光束角度與位置進行對準調節(jié),系統(tǒng)整體表現(xiàn)出良好的收斂性能,多步調節(jié)后可使光束位置對準精度優(yōu)于10μm,光束角度對準精度優(yōu)于9μrad。這樣的曝光光束對準精度可以滿足系統(tǒng)要求,達到了預期的設計目的。
[Abstract]:In order to improve the beam alignment accuracy of scanning interference field exposure and ensure the quality of grating mask grooves, an exposure beam alignment error model is established. The model is used to analyze the beam alignment error. In order to meet the requirements of the system for the precision of beam overlap, the automatic beam alignment system is designed and developed. The experimental results show that the exposure contrast of the grating substrate surface decreases significantly when the beam has a large alignment error, and because of the stepwise scanning exposure mode. The uneven exposure on the surface of photoresist affects the quality of grating mask grooves. The designed alignment system can adjust the beam angle and position, and the whole system shows good convergence performance. After multi-step adjustment, the beam position alignment accuracy is better than 10 渭 m, and the beam angle alignment accuracy is better than 9 渭 rad. this kind of exposure beam alignment accuracy can meet the requirements of the system and achieve the desired design purpose.
【作者單位】： 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所國家光柵制造與應用工程技術研究中心;中國科學院大學;
【基金】：國家重大科研裝備研制項目(61227901)
【分類號】：O436.1
【正文快照】： 2中國科學院大學,北京10004920世紀90年代,美國麻省理工學院(MIT)為了克服制作大面積全息光柵時靜態(tài)干涉場曝光方式在透0722003-1鏡材料獲取和透鏡加工方面的困難,提出了一種新的制作全息光柵的技術,即掃描干涉場曝光(SBIL)技術[1-6]。其原理是使兩束高斯激光束通過口徑不大的

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1 向勁松;胡渝;;對準誤差對前置光放大衛(wèi)星激光通信系統(tǒng)性能的影響[J];中國激光;2006年02期

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本文編號：1451260