本文關(guān)鍵詞：光學(xué)元件激光誘導(dǎo)損傷分析及實(shí)驗(yàn)研究　出處：《中國激光》2017年03期 　論文類型：期刊論文

  更多相關(guān)文章： 激光制造 激光損傷閾值 表層雜質(zhì) 亞表面缺陷 化學(xué)刻蝕

【摘要】：通過激光損傷實(shí)驗(yàn),系統(tǒng)分析了傳統(tǒng)研磨拋光加工工藝中表面雜質(zhì)、刻蝕時(shí)間、亞表層缺陷和劃痕寬深比對(duì)熔石英元件激光損傷閾值的影響。結(jié)果表明:擦洗后熔石英元件的激光損傷閾值為21.6J/cm~2,未經(jīng)擦洗的元件的激光損傷閾值為11.28J/cm~2,受表層雜質(zhì)影響激光損傷閾值大幅度降低,而有缺陷位置處的激光損傷閾值明顯比無缺陷位置處的低�？涛g時(shí)間的增加會(huì)使工件表面粗糙度和缺陷尺寸逐漸增大,導(dǎo)致光學(xué)元件激光損傷閾值大幅度下降,因此需要合理選擇化學(xué)刻蝕時(shí)間。亞表層缺陷會(huì)對(duì)入射光場產(chǎn)生調(diào)制作用,造成局部區(qū)域反射光、散射光及入射光相互疊加,最終導(dǎo)致材料破壞而產(chǎn)生激光損傷。隨著刻蝕時(shí)間的增加,劃痕的寬深比會(huì)逐漸增大,可以逐漸減弱劃痕對(duì)光場的調(diào)制作用,從而降低激光損傷發(fā)生的概率。
[Abstract]:The surface impurity and etching time in the traditional grinding and polishing process were systematically analyzed by laser damage experiment. The results show that the laser damage threshold of fused quartz element is 21.6J / cm ~ 2 after scrubbing. The laser damage threshold of unscrubbed elements is 11.28 J / cm ~ (-2), which is greatly reduced by surface impurity. The laser damage threshold at the defect position is obviously lower than that at the non-defect position. The surface roughness and defect size will increase gradually with the increase of etching time, and the laser damage threshold of optical elements will be greatly reduced. Therefore, it is necessary to choose the reasonable etching time. The subsurface defects will modulate the incident light field, resulting in the local area reflected light, scattered light and incident light superposition each other. With the increase of etching time, the ratio of width to depth of scratch will gradually increase, which can gradually weaken the modulation effect of scratch on light field, thus reducing the probability of laser damage.
【作者單位】： 哈爾濱工業(yè)大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(51475106,51475119) 國防基礎(chǔ)科研科學(xué)挑戰(zhàn)專題(JCKY2016212A506-0503)
【分類號(hào)】：TN249
【正文快照】： 熔石英是SiO2的一種非晶體形態(tài),具有非常理想的光學(xué)性能,廣泛應(yīng)用于基頻和三倍頻波段[1]。但在熔石英切割、研磨、拋光和清洗過程中,不可避免地會(huì)在工件表面/亞表面區(qū)域產(chǎn)生各種缺陷和雜質(zhì),這些擴(kuò)展到表面以下深度幾微米甚至幾百微米的缺陷和雜質(zhì)大大降低了高功率固體激光裝置

【參考文獻(xiàn)】

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【共引文獻(xiàn)】

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【二級(jí)參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：1431759