本文關(guān)鍵詞：形貌與微變形全場(chǎng)光學(xué)同時(shí)測(cè)量方法

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【摘要】：在實(shí)際工程應(yīng)用中,對(duì)材料形貌和結(jié)構(gòu)變形等參量的檢測(cè)是必不可少的,而且往往需要進(jìn)行多參量同時(shí)測(cè)量。針對(duì)該背景,采用數(shù)字散斑干涉與數(shù)字條紋投影相結(jié)合的測(cè)量方法,設(shè)計(jì)了一種集成光路,通過(guò)在數(shù)字散斑干涉實(shí)驗(yàn)光路中引入一個(gè)投影設(shè)備,實(shí)現(xiàn)物體表面形貌和微變形的同時(shí)測(cè)量。所提出的方法具有全場(chǎng)非接觸測(cè)量的優(yōu)點(diǎn),且測(cè)量光路簡(jiǎn)單、操作方便、效率高、可靠性強(qiáng)。該方法的形貌測(cè)量分辨率優(yōu)于10μm,形變測(cè)量分辨率優(yōu)于30nm。
【作者單位】： 北京信息科技大學(xué)儀器科學(xué)與光電工程學(xué)院;奧克蘭大學(xué)機(jī)械工程系;
【基金】：北京市教育委員會(huì)科技計(jì)劃面上項(xiàng)目(KM201511232004) 國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51275054)
【分類號(hào)】：O439
【正文快照】： 2.奧克蘭大學(xué)機(jī)械工程系,美國(guó)密西根州羅徹斯特市48309)引言在工程領(lǐng)域,單一參量的測(cè)量往往比較容易,有多種成熟的技術(shù)可以選擇,而多參量的同時(shí)測(cè)量則較為困難。通常通過(guò)組合多種測(cè)量技術(shù)進(jìn)行多參量的測(cè)量,但如此則無(wú)法滿足多技術(shù)同時(shí)同位置測(cè)量的要求。而工程中多參量的測(cè)量，

本文編號(hào)：1254315