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氫對(duì)裂紋尖端位錯(cuò)發(fā)射機(jī)理的研究

發(fā)布時(shí)間:2024-02-29 21:29
  晶體材料在制作,加工和使用過(guò)程中經(jīng)常有氫進(jìn)入材料中。氫一旦滲入到晶體材料中,當(dāng)其向外擴(kuò)散時(shí),產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力是相當(dāng)大的,在如此大的內(nèi)應(yīng)力時(shí)工作,對(duì)晶體材料的損害也是非常大的。滲入到晶體材料里的氫,會(huì)使金屬的晶格產(chǎn)生歪曲,金屬開(kāi)始滑移,從而使晶體的機(jī)械性能下降,如抗拉強(qiáng)度降低,韌性降低導(dǎo)致材料變脆,這種現(xiàn)象稱(chēng)為“氫脆”。氫脆的本質(zhì)是氫進(jìn)入到材料中影響形變與斷裂的基本過(guò)程,從而導(dǎo)致材料的性能的變化。因此研究氫對(duì)裂紋尖端位錯(cuò)發(fā)射的影響機(jī)制對(duì)指導(dǎo)材料性能提高具有重要科研價(jià)值和實(shí)際意義。本文以晶體材料為研究對(duì)象,建立了氫氣團(tuán)與裂紋尖端刃型位錯(cuò)干涉的模型,運(yùn)用彈性復(fù)勢(shì)函數(shù)的方法,研究了 Ⅰ型載荷和Ⅱ型載荷下,氫氣團(tuán)與裂紋裂紋尖端刃型位錯(cuò)的相互作用。得到了氫氣團(tuán)對(duì)裂紋裂紋尖端刃型位錯(cuò)發(fā)射應(yīng)力強(qiáng)度因子精確表達(dá)式,由此獲得數(shù)值曲線圖研究了溫度、氫濃度、裂紋長(zhǎng)度以及裂紋尖端曲率半徑等因素對(duì)裂紋尖端應(yīng)力場(chǎng)的影響和位錯(cuò)發(fā)射的難易程度等規(guī)律。主要研究成果如下:1.建立了氫氣團(tuán)與直線裂紋和位錯(cuò)交互作用的力學(xué)模型,建立了氫氣團(tuán)與直線裂紋和位錯(cuò)交互作用的力學(xué)模型,導(dǎo)出了裂紋尖端刃型位錯(cuò)發(fā)射的應(yīng)力場(chǎng)精確表達(dá)式,得到了裂紋尖...

【文章頁(yè)數(shù)】:65 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

圖2.2取不同的氫濃度,無(wú)量綱化[型臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子隨發(fā)射角度的變化曲線圖??如圖2.3所示為a=2006,.,c〇=0.01,取不同的溫度71時(shí),無(wú)量綱化I型臨界應(yīng)??

圖2.2取不同的氫濃度,無(wú)量綱化[型臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子隨發(fā)射角度的變化曲線圖??如圖2.3所示為a=2006,.,c〇=0.01,取不同的溫度71時(shí),無(wú)量綱化I型臨界應(yīng)??

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圖2.3取不同的溫度,無(wú)量綱化I型臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子隨發(fā)射角度的變化曲線圖??如圖2.4所示,當(dāng)r=200K,〇=0.01時(shí),取不同的裂紋長(zhǎng)度山無(wú)量綱化I型??

圖2.3取不同的溫度,無(wú)量綱化I型臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子隨發(fā)射角度的變化曲線圖??如圖2.4所示,當(dāng)r=200K,〇=0.01時(shí),取不同的裂紋長(zhǎng)度山無(wú)量綱化I型??

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圖2.4取不同的裂紋長(zhǎng)度,無(wú)量綱化I型臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子隨發(fā)射角度的變化曲線圖??如圖2.5所示,在II型裂紋外加載荷a=2006,.,r=200K時(shí),取不同的氫濃度,??

圖2.4取不同的裂紋長(zhǎng)度,無(wú)量綱化I型臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子隨發(fā)射角度的變化曲線圖??如圖2.5所示,在II型裂紋外加載荷a=2006,.,r=200K時(shí),取不同的氫濃度,??

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圖2.5取不同的氫濃度,無(wú)量綱化I型臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子隨發(fā)射角度的變化曲線圖??如圖2.6所示為a=2006,.,?cQ=0.01時(shí),取不同的溫度,刃型位錯(cuò)發(fā)射的無(wú)量綱??

圖2.5取不同的氫濃度,無(wú)量綱化I型臨界應(yīng)力強(qiáng)度因子隨發(fā)射角度的變化曲線圖??如圖2.6所示為a=2006,.,?cQ=0.01時(shí),取不同的溫度,刃型位錯(cuò)發(fā)射的無(wú)量綱??

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本文編號(hào):3914951

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