本文關(guān)鍵詞：水射流拋光去除函數(shù)對面形誤差修正的影響　出處：《中國激光》2016年04期 　論文類型：期刊論文

  更多相關(guān)文章： 光學(xué)制造 水射流拋光 去除函數(shù) 熔石英

【摘要】：研究了水射流拋光條件下的去除函數(shù)特征,根據(jù)去除函數(shù)的一維輪廓特征采用分段解析函數(shù)擬合方法建立了去除函數(shù)的解析表達(dá)式。根據(jù)解析表達(dá)式采用Matlab數(shù)值模擬方法對不同參數(shù)條件下的去除函數(shù)進(jìn)行了一維疊加去除模擬,引入波紋度均方根值Wrms指標(biāo),對均勻去除與線性去除條件下不同參數(shù)對去除函數(shù)一維誤差修正的影響進(jìn)行了討論。通過兩輪水射流拋光實(shí)驗(yàn),使F50 mm熔石英玻璃面形峰谷值λPV由0.148λ收斂至0.062λ,90%與75%口徑范圍分別收斂至0.048λ與0.032λ。面形均方根值λrms由18.86 nm收斂至4.87 nm,90%與75%口徑范圍內(nèi)分別收斂至3.67 nm與3.15 nm。
[Abstract]:The characteristics of removal function under the condition of water jet polishing are studied. According to the one-dimensional contour feature of the removal function, the analytic expression of the removal function is established by using the piecewise analytic function fitting method. According to the analytical expression, the Matlab numerical simulation method is used to remove the parameters under different conditions. The one-dimensional superposition removal simulation of the division function is carried out. The effect of different parameters on the one-dimensional error correction of the removal function under the condition of uniform removal and linear removal is discussed by introducing the Wrms index of waviness RMS. The experiment of two-wheel water jet polishing is carried out. The peak and valley value 位 PV of F50mm fused quartz glass was converged from 0.148 位 to 0.062 位. The range of 90% and 75% aperture converges to 0.048 位 and 0.032 位, respectively. The root-mean-square value 位 rms converges from 18.86 nm to 4.87 nm. It converges to 3.67 nm and 3.15 nm in the range of 90% and 75% respectively.
【作者單位】： 成都精密光學(xué)工程研究中心;
【分類號】：O358
【正文快照】： 1引言空間遙感、通訊、電子行業(yè)的迅猛發(fā)展以及以大型激光裝置為代表的一批大科學(xué)裝置的興建催生了對超光滑表面、非球面及自由曲面光學(xué)元件的需求熱潮,也給傳統(tǒng)光學(xué)加工、特別是古典拋光技術(shù)帶來了不小的挑戰(zhàn)。為了適應(yīng)新需求、新變化,一批以計(jì)算機(jī)控制為基礎(chǔ)的確定性拋光(CC

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本文編號：1417146