本文關(guān)鍵詞：雙層電阻柵SOI應(yīng)變計的設(shè)計及其在煤礦的應(yīng)用

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【摘要】：設(shè)計了一種微熔結(jié)構(gòu)的雙層電阻柵SOI應(yīng)變計,該應(yīng)變計利用熱生長氧化、光刻、刻蝕等工藝方法進行制作,解決了通常SOI應(yīng)變計體電阻阻值小、易受污染的問題,提高了應(yīng)變計的精度、絕緣性和工作穩(wěn)定性�，F(xiàn)場試驗結(jié)果表明,利用該應(yīng)變計制作的煤礦鉆孔應(yīng)力計測量數(shù)據(jù)準確,工作穩(wěn)定可靠,適用于煤巖體應(yīng)力監(jiān)測。
【作者單位】： 天地科技股份有限公司開采設(shè)計事業(yè)部;復(fù)旦大學信息科學與工程學院;
【基金】：國家自然科學基金青年基金項目(51304115) 中國煤炭科工集團科技創(chuàng)新基金重點資助項目(2013ZD002) 天地科技技術(shù)創(chuàng)新基金項目(KJ-2015-TDKC-02);天地科技開采青年創(chuàng)新基金項目(KJ-2015-TDKC-12)
【分類號】：TD326
【正文快照】： 0引言0~60MPa量程的應(yīng)變計有2種常見的結(jié)構(gòu)形式,即濺射薄膜結(jié)構(gòu)和微熔結(jié)構(gòu)[1]。濺射薄膜結(jié)構(gòu)應(yīng)變計是在不銹鋼平臺表面上,采用濺射技術(shù)、PECVD技術(shù)及光刻等技術(shù)生長出絕緣膜,再淀積一層鉑、鉑銥、鉑鎢等合金薄膜,通過微細加工光刻技術(shù)將這層金屬膜制成電阻敏感柵。微熔結(jié)構(gòu)應(yīng)

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本文編號：1303048