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基于雙平面方式下陶瓷球拋光均勻性研究

發(fā)布時間:2017-10-07 18:08

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【摘要】:為了獲得陶瓷球超光滑加工表面,提出一種新型的球體雙平面拋光方法,通過使球體在上、下軟質(zhì)拋光盤面之間不斷的自旋和滾動實現(xiàn)球面均勻拋光。通過建立球體運動模型和使用Matlab仿真軟件對陶瓷球雙平面拋光方法進行優(yōu)化分析,研究表明影響球面軌跡均勻性的球體自轉(zhuǎn)角變化范圍和自轉(zhuǎn)角速度的變化主要由行星輪保持架與拋光盤的轉(zhuǎn)速比m、保持架中心到拋光盤中心的偏心距與球體球心到保持架中心的孔心距比n決定。同時使用雙平面拋光設(shè)備對氮化硅陶瓷球進行拋光20h,表面粗糙度從15.95nm下降到3.90nm,球上各點粗糙度值相差1nm左右,證明了陶瓷球雙平面拋光方法的有效性。
【作者單位】: 衢州學院機械工程學院;浙江工業(yè)大學省部共建機械制造及自動化教育部重點實驗室;
【關(guān)鍵詞】陶瓷球 雙平面方式 拋光均勻性 仿真
【基金】:國家自然科學基金資助項目(51275272) 衢州學院校基金項目(KY1304)
【分類號】:TH133.3;TG580.692
【正文快照】: 2浙江工業(yè)大學省部共建機械制造及自動化教育部重點實驗室,杭州310014)陶瓷球具有強度高、耐磨性好、剛度高、耐腐蝕、耐高溫、電絕緣、不導磁和比重小等一系列金屬材料不具備的性能,受到軸承設(shè)計者的青睞,在高性能軸承上得到廣泛應(yīng)用[1-3]。傳統(tǒng)V形槽鑄鐵盤拋光,在加工過程中

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本文編號:989305

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