微納米結(jié)構(gòu)的電驅(qū)動(dòng)模塑成形工藝及其界面物理行為研究
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【摘要】:正以納米壓印為代表的模塑成形工藝,被認(rèn)為是一種低成本、高效率、高分辨率的納米結(jié)構(gòu)成形技術(shù),被許多重要的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域寄予了厚望,甚至被國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖(ITRS)列為未來(lái)最有可能代替光學(xué)光刻的一種圖形化技術(shù)。然而此類(lèi)技術(shù)在填充和脫模過(guò)程中的缺陷控制和模板壽命方面的困難,一直是限制其深入走向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用的關(guān)鍵問(wèn)題。因此,研究微納米結(jié)構(gòu)的模塑成形工藝在其流變過(guò)程和表界面行為中的缺陷形成機(jī)理,并提出行之有效的解決方案,是推動(dòng)微納米結(jié)構(gòu)模塑成形技
【作者單位】: 西安交通大學(xué);
【關(guān)鍵詞】: 微納米結(jié)構(gòu);成形工藝;模塑;納米壓印;電驅(qū)動(dòng);高分辨率;半導(dǎo)體技術(shù);界面行為;缺陷控制;聚合物表面;
【分類(lèi)號(hào)】:TH16;TB383.1
【正文快照】: 以納米壓印為代表的模塑成形工藝,被認(rèn)為是一種低成本、高效率、高分辨率的納米結(jié)構(gòu)成形技術(shù),被許多重要的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域寄予了厚望,甚至被國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖(ITRS)列為未來(lái)最有可能代替光學(xué)光刻的一種圖形化技術(shù)。然而此類(lèi)技術(shù)在填充和脫模過(guò)程中的缺陷控制和模板壽命方面的困
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,本文編號(hào):815452
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