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考慮雙電層力時(shí)微納間隙動壓潤滑邊界滑移研究

發(fā)布時(shí)間:2017-07-30 13:23

  本文關(guān)鍵詞:考慮雙電層力時(shí)微納間隙動壓潤滑邊界滑移研究


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【摘要】:采用原子力顯微鏡對微納米間隙下硅基片與純角鯊?fù)橐后w固-液接觸面的邊界滑移進(jìn)行試驗(yàn)研究,同時(shí)考慮固-液接觸面處雙電層力,擬合Si O2小球與固體試樣的表面電荷密度以及角鯊?fù)榱黧w動壓力。結(jié)果表明,在不考慮小球重力、慣性力及分子間作用力的情況下,小球在垂直趨近固體試樣的過程中主要受力為雙電層力及流體動壓力,在低速時(shí),雙電層力占主導(dǎo)地位;在角鯊?fù)橐后w環(huán)境中,探針趨近硅基片的過程中,雙電層力表現(xiàn)為引力,且其大小與趨近速度無關(guān);在試驗(yàn)的趨近速度范圍內(nèi),Si(100)表面與角鯊?fù)榈慕佑|面均會產(chǎn)生邊界滑移,且滑移長度隨著速度的增大而升高。
【作者單位】: 福州大學(xué)機(jī)械工程及自動化學(xué)院;清華大學(xué)摩檫學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】原子力顯微鏡 邊界滑移 雙電層力 角鯊?fù)?/strong>
【基金】:國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51175085) 清華大學(xué)摩擦學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開放基金項(xiàng)目(SKLTKF13A09)
【分類號】:TH117.2
【正文快照】: j縥縥縥縥縥縥縥,

本文編號:594421


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