超快光學(xué)技術(shù)對(duì)磁性薄膜自旋動(dòng)力學(xué)過程的實(shí)驗(yàn)研究
【文章頁數(shù)】:67 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.1電荷器件中單個(gè)芯片上晶體管個(gè)數(shù)反映的摩爾定律發(fā)展歷史[5]
過磁矩繞外磁場(chǎng)方向進(jìn)動(dòng)的方式完成的,時(shí)間尺度大約在百ps至百μs量級(jí)[7][8][9]。圖1.1電荷器件中單個(gè)芯片上晶體管個(gè)數(shù)反映的摩爾定律發(fā)展歷史[5]快速操縱磁矩的翻轉(zhuǎn)對(duì)存儲(chǔ)信息應(yīng)用具有巨大的價(jià)值和潛力,相關(guān)的微電子元器件磁隨機(jī)存儲(chǔ)器(MagneticRandom....
圖1.2MRAM單元的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)
圖1.2MRAM單元的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)存儲(chǔ)器件,外磁場(chǎng)作為實(shí)現(xiàn)磁化翻轉(zhuǎn)的助力使翻轉(zhuǎn)場(chǎng)的強(qiáng)度增大,磁化翻轉(zhuǎn)的時(shí)間可由之前的ns量級(jí)高外加脈沖磁場(chǎng)的強(qiáng)度和縮短外加磁場(chǎng)的作用時(shí)間的時(shí)間尺度極限[12]。顯而易見,磁存儲(chǔ)技術(shù)在實(shí)際限。光就成為了磁存儲(chǔ)技術(shù)發(fā)展過程中突破的契機(jī)。隨間尺度上的磁....
圖2.1不同磁動(dòng)力學(xué)過程的特征時(shí)間尺度[14]
宏觀的效應(yīng),它強(qiáng)烈地依賴于磁性薄膜的結(jié)構(gòu)和磁疇的大小等因素,這個(gè)時(shí)間范圍可以從百μs延伸至ms量級(jí)[14]。圖2.1不同磁動(dòng)力學(xué)過程的特征時(shí)間尺度[14]
圖2.2Ni(20nm)/MgF2(100nm)膜在7mJ/cm2泵浦通量下的瞬態(tài)剩余縱向MOKE信號(hào)
6100nm)膜在7mJ/cm2泵浦通量下的瞬態(tài)剩余縱泵浦光束的情況下測(cè)量的信號(hào)。圖中實(shí)線是視
本文編號(hào):4028151
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