本文關(guān)鍵詞：大形變珠光體鋼絲中微結(jié)構(gòu)及位錯組態(tài)研究

  更多相關(guān)文章： 珠光體鋼絲 位錯組態(tài) 位錯密度 鐵素體片層厚度

【摘要】：為研究大形變珠光體鋼絲微結(jié)構(gòu)及位錯組態(tài)的演變規(guī)律,采用萬能試驗機及顯微硬度計測試了拉拔形變珠光體鋼絲的力學性能；采用掃描電鏡(SEM)及其配套的電子背散射衍射(EBSD)系統(tǒng)研究了珠光體片層結(jié)構(gòu)和鐵素體織構(gòu)的演變規(guī)律；采用透射電鏡(TEM)研究了鋼絲中位錯組態(tài)的演變情況,采用X射線衍射(XRD)儀分析了鋼絲各衍射峰的寬化情況,并根據(jù)Voigt函數(shù)改進的WH方法定量計算出鋼絲的位錯密度；探討了位錯組態(tài)與鐵素體片層厚度的關(guān)系及鐵素體臨界片層厚度的計算方法。冷拉拔珠光體鋼絲微結(jié)構(gòu)及力學性能的研究結(jié)果表明：隨著應變量的增加,鋼絲抗拉強度和顯微硬度持續(xù)增加,珠光體片層逐漸轉(zhuǎn)向拉拔方向,片層間距減小,成為沿拉拔方向的纖維狀組織；隨著應變量的增加,鐵素體中110絲織構(gòu)的強度逐漸增大,最后趨于飽和。珠光體鋼絲中位錯組態(tài)分析及位錯密度計算的結(jié)果表明：珠光體鋼原始盤條中位錯少而平直,位錯密度的數(shù)量級在1013 m-2；當應變量較低時,位錯密度緩慢增加,位錯線呈平行“列式”排布,此時位錯處于單滑移階段；隨著應變量的增加,位錯密度快速增加到1015m-2,位錯之間發(fā)生聚集和纏結(jié),并形成“位錯墻”等組態(tài),位錯逐漸從單滑移過渡到多滑移階段；當應變量達到2.52時,位錯密度開始下降；當應變量達到3.25時,出現(xiàn)了單個位錯“弓出”的組態(tài)。采用F-R源公式計算了不同應變量下鐵素體臨界片層厚度,探討了位錯組態(tài)與鐵素體片層厚度關(guān)系,并結(jié)合大應變珠光體鋼絲對其進行了修正,結(jié)果表明：1)片層厚度大于臨界值時,位錯快速增殖,易發(fā)生塞積和纏結(jié),進而形成“位錯墻”等結(jié)構(gòu)；2)片層厚度接近臨界值時,位錯增殖減緩,易于形成單個位錯“弓出”的結(jié)構(gòu)；3)片層厚度小于臨界值時,位錯增殖受阻,位錯不能被釘扎住,易于在外力作用下快速滑移出晶體。
【關(guān)鍵詞】：珠光體鋼絲 位錯組態(tài) 位錯密度 鐵素體片層厚度
【學位授予單位】：東南大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2015
【分類號】：TG356.45
【目錄】：

• 摘要4-5
• Abstract5-9
• 第一章 緒論9-23
• 1.1 鋼絲生產(chǎn)與應用9-13
• 1.1.1 鋼絲生產(chǎn)工藝流程9-10
• 1.1.2 鋼絲表面預處理10-11
• 1.1.3 鋼絲冷拉拔工藝11-12
• 1.1.4 鋼絲熱處理12-13
• 1.2 珠光體鋼絲研究現(xiàn)狀13-17
• 1.2.1 微觀組織演變13-15
• 1.2.2 位錯組態(tài)演變15-16
• 1.2.3 位錯密度計算16-17
• 1.3 珠光體鋼絲拉拔過程中強化機制17-20
• 1.3.1 晶界強化17-18
• 1.3.2 位錯強化18-19
• 1.3.3 滲碳體分解強化19-20
• 1.4 本課題的研究背景和內(nèi)容20-23
• 1.4.1 研究背景與意義20-21
• 1.4.2 研究內(nèi)容21-23
• 第二章 實驗材料及方法23-33
• 2.1 研究路線23-24
• 2.2 實驗材料24
• 2.3 力學性能測試24-25
• 2.3.1 顯微硬度測試24-25
• 2.3.2 抗拉強度測試25
• 2.4 顯微組織觀察分析25-33
• 2.4.1 SEM觀察分析25
• 2.4.2 電子背散射衍射分析25-27
• 2.4.3 TEM觀察分析27
• 2.4.4 位錯密度測量27-33
• 第三章 冷拔珠光體鋼絲的組織與力學性能33-42
• 3.1 力學性能33-34
• 3.2 微觀組織34-37
• 3.3 織構(gòu)演變37-40
• 3.4 本章小結(jié)40-42
• 第四章 位錯的TEM和XRD分析42-59
• 4.1 位錯的TEM分析42-50
• 4.2 幾種XRD測量方法比較50-55
• 4.2.1 WH方法50-51
• 4.2.2 Voigt函數(shù)改進WH方法51-53
• 4.2.3 Origin函數(shù)擬合方法53-55
• 4.3 位錯密度的測量55-57
• 4.3.1 計算87A位錯密度55-56
• 4.3.2 橫縱截面比較56-57
• 4.4 本章小結(jié)57-59
• 第五章 位錯組態(tài)與鐵素體片層厚度關(guān)系探究59-70
• 5.1 鐵素體臨界片層厚度的計算方法59-64
• 5.1.1 弗蘭克-瑞德源60-61
• 5.1.2 鐵素體臨界片層厚度計算61-64
• 5.2 位錯組態(tài)與鐵素體片層厚度的關(guān)系64-67
• 5.2.1 幾種位錯組態(tài)的觀察與分析64-65
• 5.2.2 位錯組態(tài)與鐵素體片層厚度65-67
• 5.3 計算公式的修正67-69
• 5.4 本章小結(jié)69-70
• 第六章 結(jié)論70-71
• 致謝71-72
• 參考文獻72-78

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