本文關(guān)鍵詞：應(yīng)用于射流拋光技術(shù)的并聯(lián)平臺(tái)開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)研究

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【摘要】：射流拋光技術(shù),基于流體動(dòng)力作用去除機(jī)理,通過(guò)控制液體噴射的壓力、方向及駐留時(shí)間等量對(duì)被加工件面形進(jìn)行定量修正。射流拋光技術(shù)作為終加工及精加工手段,對(duì)加工精度要求極高。而其最終加工效果一部分受加工設(shè)備機(jī)械結(jié)構(gòu)影響；另一部分受控制系統(tǒng)影響,可以說(shuō)射流拋光的最終效果很大程度上由控制系統(tǒng)的性能好壞來(lái)決定。傳統(tǒng)射流拋光設(shè)備主要采用串聯(lián)結(jié)構(gòu),適用于平面加工,其控制系統(tǒng)發(fā)展較為成熟,算法簡(jiǎn)單；相比而言,并聯(lián)運(yùn)動(dòng)平臺(tái),作為一種針對(duì)射流拋光加工技術(shù)提出的拋光設(shè)備,其剛度更高,曲面加工效果更好,但控制系統(tǒng)搭建復(fù)雜,想要實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)性好、穩(wěn)定性高的加工要求,存在一定難度。針對(duì)本研究課題,提出采用基于LINUX的開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)。該數(shù)控系統(tǒng)基于RT-LINUX環(huán)境搭建,它具有高度模塊化、良好移植性的特點(diǎn),簡(jiǎn)化了該平臺(tái)數(shù)控系統(tǒng)的搭建工作。分析該數(shù)控系統(tǒng)內(nèi)部架構(gòu),根據(jù)射流拋光并聯(lián)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)重新編寫(xiě)其運(yùn)動(dòng)控制模塊、根據(jù)射流拋光并聯(lián)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的速度控制要求重新編寫(xiě)其加減速控制模塊,通過(guò)實(shí)驗(yàn)對(duì)該設(shè)備的LINUXCNC數(shù)控系統(tǒng)以及速度控制算法進(jìn)行實(shí)例驗(yàn)證和分析。最終采用誤差標(biāo)定算法進(jìn)行標(biāo)定實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)證明將該開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)應(yīng)用于射流拋光并聯(lián)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)具有極大的優(yōu)勢(shì),簡(jiǎn)化控制系統(tǒng)搭建的同時(shí),保證設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性,滿(mǎn)足射流拋光設(shè)備加工要求。
【關(guān)鍵詞】：射流拋光 并聯(lián)運(yùn)動(dòng) LINUX 開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)
【學(xué)位授予單位】：北京林業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類(lèi)號(hào)】：TG580.692
【目錄】：

• 摘要4-5
• ABSTRACT5-8
• 1 緒論8-15
• 1.1 課題背景介紹8
• 1.2 開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)概述8-11
• 1.3 開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)國(guó)內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢(shì)11-14
• 1.3.1 國(guó)外開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)發(fā)展現(xiàn)狀11-13
• 1.3.2 國(guó)內(nèi)開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)發(fā)展現(xiàn)狀13
• 1.3.3 開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)13-14
• 1.4 本文主要工作內(nèi)容14-15
• 2 射流拋光并聯(lián)運(yùn)動(dòng)加工平臺(tái)15-21
• 2.1 射流拋光并聯(lián)平臺(tái)結(jié)構(gòu)方案15-16
• 2.2 射流拋光并聯(lián)運(yùn)動(dòng)加工平臺(tái)運(yùn)動(dòng)學(xué)分析16-19
• 2.2.1 并聯(lián)機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)學(xué)位置分析16-17
• 2.2.2 射流拋光并聯(lián)運(yùn)動(dòng)加工平臺(tái)位置逆解17-19
• 2.3 MATLAB運(yùn)動(dòng)學(xué)模擬計(jì)算19-20
• 2.4 本章小結(jié)20-21
• 3 硬件系統(tǒng)設(shè)計(jì)21-26
• 3.1 開(kāi)放式數(shù)控系統(tǒng)硬件設(shè)計(jì)21
• 3.2 射流拋光并聯(lián)運(yùn)動(dòng)加工平臺(tái)硬件設(shè)計(jì)21-25
• 3.2.1 系統(tǒng)上位機(jī)22-23
• 3.2.2 多軸運(yùn)動(dòng)控制卡23-24
• 3.2.3 電機(jī)伺服系統(tǒng)24-25
• 3.2.4 伺服系統(tǒng)輔助部件25
• 3.3 本章小結(jié)25-26
• 4 軟件系統(tǒng)設(shè)計(jì)與研究26-47
• 4.1 并聯(lián)運(yùn)動(dòng)加工平臺(tái)軟件系統(tǒng)需求分析26
• 4.2 并聯(lián)運(yùn)動(dòng)加工平臺(tái)控制系統(tǒng)軟件架構(gòu)26-35
• 4.2.1 LINUXCNC簡(jiǎn)介27-28
• 4.2.2 RCS通信與HAL硬件抽象層28-31
• 4.2.3 人機(jī)交互界面(GUI)模塊31-32
• 4.2.4 任務(wù)執(zhí)行器模塊32-33
• 4.2.5 運(yùn)動(dòng)控制器模塊33-35
• 4.3 GUI模塊設(shè)計(jì)35-36
• 4.4 運(yùn)動(dòng)控制算法設(shè)計(jì)36-37
• 4.5 軌跡規(guī)劃算法設(shè)計(jì)37-43
• 4.5.1 算法原理38-41
• 4.5.2 射流拋光實(shí)驗(yàn)平臺(tái)41
• 4.5.3 試驗(yàn)結(jié)果41-43
• 4.5.4 結(jié)論43
• 4.6 Linux與Windows系統(tǒng)交互設(shè)計(jì)43-46
• 4.7 本章小結(jié)46-47
• 5 并聯(lián)運(yùn)動(dòng)加工平臺(tái)運(yùn)動(dòng)學(xué)標(biāo)定47-65
• 5.1 誤差分析47-50
• 5.1.1 誤差來(lái)源分析47-49
• 5.1.2 精度提高方法分析49-50
• 5.2 誤差標(biāo)定模型建立50-58
• 5.3 誤差標(biāo)定實(shí)驗(yàn)58-64
• 5.3.1 誤差標(biāo)定實(shí)驗(yàn)裝置58-59
• 5.3.2 誤差標(biāo)定實(shí)驗(yàn)59-61
• 5.3.3 誤差標(biāo)定實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)61-63
• 5.3.4 誤差標(biāo)定結(jié)果63-64
• 5.4 本章小結(jié)64-65
• 6 結(jié)論與展望65-66
• 參考文獻(xiàn)66-68
• 個(gè)人簡(jiǎn)介68-69
• 導(dǎo)師簡(jiǎn)介69-70
• 獲得成果目錄70-71
• 致謝71

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