發(fā)布時間：2022-11-04 18:46

　　磨粒和拋光墊為化學(xué)機械拋光（CMP）提供了重要的機械磨削作用。為了探討磨粒和拋光墊對鋁合金化學(xué)機械拋光的磨削作用,研究了不同種類磨粒和拋光墊對材料去除率和表面形貌的影響。結(jié)果表明:在pH=12～13時,氧化鋁拋光液去除率為910 nm/min,遠大于二氧化硅與氧化鈰拋光液,且獲得較為理想的光滑表面。3種不同拋光墊拋光后的鋁合金表面,阻尼布拋光墊表面將不會出現(xiàn)劃痕與腐蝕點,表面粗糙度較低,為10.9 nm。隨著氧化鋁濃度的增大,材料去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）均增加。當氧化鋁含量為4wt%時,拋光墊使用阻尼布拋光墊適宜鋁合金化學(xué)機械拋光,在獲得高去除率的同時鋁合金表面精度高。 

【文章頁數(shù)】：5 頁

【文章目錄】：
1 實驗部分
    1.1 鋁合金CMP拋光實驗
    1.2 拋光液
    1.3 拋光墊種類
2 結(jié)果與討論
    2.1 不同磨粒種類對鋁合金表面粗糙度和去除率的影響
    2.2 不同拋光墊種類對鋁合金表面粗糙度和去除率的影響
    2.3 氧化鋁拋光液濃度對鋁合金拋光表面粗糙度和去除率的影響
3 結(jié)論


【參考文獻】：
期刊論文
[1]拋光壓力和拋光墊硬度對PMMA-CeO2核殼復(fù)合磨粒拋光性能的影響（英文）[J]. 馬翔宇,陳楊.  微納電子技術(shù). 2019(10)
[2]鋁化學(xué)機械拋光中1,2,4-三唑和苯并三氮唑的緩蝕機制[J]. 劉萍,王永光,趙永武,朱玉廣.  材料保護. 2019(05)
[3]氧化鋁拋光液對鋁合金化學(xué)機械拋光性能的研究（英文）[J]. 張澤芳,張文娟,張善端,李富友.  摩擦學(xué)學(xué)報. 2019(01)
[4]磨粒和拋光墊特性對藍寶石超聲化學(xué)機械拋光的影響[J]. 鐘敏,袁任江,李小兵,陳建鋒,許文虎.  中國表面工程. 2018(06)
[5]拋光墊特性對氧化鎵CMP影響的實驗研究[J]. 龔凱,周海,韋嘉輝,宋放,王晨宇.  工具技術(shù). 2018(06)
[6]氧化鋁顆粒的表面改性及其在C平面（0001）藍寶石襯底上的化學(xué)機械拋光（CMP）性質(zhì)（英）[J]. 汪為磊,劉衛(wèi)麗,白林森,宋志棠,霍軍朝.  無機材料學(xué)報. 2017(10)
[7]304不銹鋼化學(xué)機械拋光工藝參數(shù)研究[J]. 李慶,陳紹坤,彭亞男,秦洪權(quán),付素芳,蘇建修.  金剛石與磨料磨具工程. 2016(05)



本文編號：3701139