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脈沖頻率對(duì)鋯薄膜表面形貌和結(jié)構(gòu)的影響

發(fā)布時(shí)間:2018-08-24 19:14
【摘要】:用脈沖激光氣相沉積法在金屬鉬基底上制備鋯薄膜,并用SEM,AFM,XRD等手段分析薄膜表面形貌和晶體結(jié)構(gòu),研究了脈沖激光頻率對(duì)薄膜表面形貌和晶體結(jié)構(gòu)的影響。結(jié)果表明:隨著激光脈沖頻率的提高鋯薄膜表面液滴數(shù)目增加,液滴尺寸增大,薄膜的沉積速率顯著降低。薄膜表面的平均納米顆粒尺寸,隨著頻率的提高呈現(xiàn)先增大后減小的規(guī)律。從XRD數(shù)據(jù)發(fā)現(xiàn),較高的脈沖頻率極大地促進(jìn)了薄膜的結(jié)晶性生長(zhǎng);但是,頻率變化對(duì)Zr薄膜晶體結(jié)構(gòu)、晶面擇優(yōu)生長(zhǎng)的影響并不明顯,薄膜呈現(xiàn)典型的hcp結(jié)構(gòu)且不隨頻率的變化改變。
[Abstract]:Zirconium thin films were prepared on molybdenum substrates by pulsed laser vapor deposition. The surface morphology and crystal structure of the films were analyzed by means of SEM,AFM,XRD, and the effects of pulse laser frequency on the surface morphology and crystal structure of the films were studied. The results show that with the increase of laser pulse frequency, the number of droplets on the surface of zirconium films increases, the droplet size increases, and the deposition rate of the films decreases significantly. The average nanocrystalline size of the film surface increases first and then decreases with the increase of the frequency. From the XRD data, it is found that the high pulse frequency greatly promotes the crystal growth of the Zr thin film, but the influence of the frequency change on the crystal structure and the preferential growth of the crystal plane of the Zr thin film is not obvious. The film presents a typical hcp structure and does not change with frequency.
【作者單位】: 中國(guó)工程物理研究院核物理與化學(xué)研究所;
【分類號(hào)】:TG174.4

【共引文獻(xiàn)】

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【二級(jí)參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào):2201770

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