賀德建, 導(dǎo)師:張鴻海,劉勝,納米壓印光刻技術(shù)原理與實(shí)驗(yàn)研究
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文獻(xiàn)名稱:納米壓印光刻技術(shù)原理與實(shí)驗(yàn)研究
前言:本文介紹了納米壓印光刻技術(shù)的原理并進(jìn)行了相關(guān)的實(shí)驗(yàn)研究,目的在于研究采用納米壓印光刻技術(shù)制備三維微結(jié)構(gòu)的工藝,以促進(jìn)此項(xiàng)技術(shù)更快的走向廣泛的實(shí)際應(yīng)用。本文首先介紹了納米壓印光刻技術(shù)的原理,以及納米壓印光刻技術(shù)的趨勢(shì)和面臨的挑戰(zhàn),并針對(duì)這些挑戰(zhàn)提出了可能的解決方案。為了滿足納米壓印光刻技術(shù)研究的需要,本文研制了納米壓印光刻機(jī)。該光刻機(jī)可以同時(shí)滿足熱軟化納米壓印光刻和光固化納米壓印光刻的需要,并能夠適應(yīng)從納米級(jí)到毫米級(jí)各種尺寸范圍微結(jié)構(gòu)加工的需要。在該納米光刻機(jī)的設(shè)計(jì)中,一種新型的楔形補(bǔ)償模塊被研制,該模塊避免了國(guó)外設(shè)計(jì)中存在的問(wèn)題,提高了圖形加工的均勻性,而且還具有過(guò)載保護(hù)的輔助功能。針對(duì)光刻膠力學(xué)性能測(cè)試的要求,本文研制了一臺(tái)聚合物單軸試驗(yàn)機(jī),該試驗(yàn)機(jī)能夠同時(shí)對(duì)溫度和壓力加載,以測(cè)試聚合物光刻膠在不同溫度下的力學(xué)性能。試驗(yàn)機(jī)的研制還包含了一種高精度六維力傳感器的研制,該傳感器通過(guò)新穎的基體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和巧妙的布片方案實(shí)現(xiàn)了結(jié)構(gòu)解耦,大大簡(jiǎn)化了信號(hào)處理電路的設(shè)計(jì)并降低了成本。本文還進(jìn)行了與溫度相關(guān)的光刻膠力學(xué)特性研究。這些研究對(duì)納米壓印光刻工藝中溫度、壓力等參數(shù)的控制具有指導(dǎo)性的意義。此外,...
The thesis presents the principle and experimental study of nanoimprint lithography. The primary objective is to investigate the application of nanoimprint lithography in three-dimensional micro-structure fabrication and to study the process control of nanoimprint lithography.In this thesis, a nanoimprint system is designed and set up. This nanoimprint system is designed to be suitable for both thermal nanoimprint lithography and UV-curing nanoimprint. Furthermore, it performances very well in 3-D micro-...
文獻(xiàn)名稱 納米壓印光刻技術(shù)原理與實(shí)驗(yàn)研究
Article Name
英文(英語(yǔ))翻譯
Research on Principle and Process Control of Nanoimprint Lithography;
作者 賀德建; 導(dǎo)師:張鴻海; 劉勝;
Author
作者單位
Author Agencies
華中科技大學(xué);
文獻(xiàn)出處
Article From
中國(guó)科學(xué)院上海冶金研究所; 材料物理與化學(xué)(專業(yè)) 博士論文 2000年度
關(guān)鍵詞 納米壓印光刻; 光刻技術(shù); 三維微加工; 納米加工;
Keywords Nanoimprint Lithography;Hot Embossing;Lithography;Nano-fabrication;
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本文關(guān)鍵詞:納米壓印光刻技術(shù)原理與實(shí)驗(yàn)研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
本文編號(hào):193737
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