發(fā)布時間：2018-04-27 22:18

  本文選題：盧卡斯—圖恩方程 + X-ray熒光光譜法　； 參考：《蘭州大學》2015年碩士論文

【摘要】：本文針對X-ray熒光光譜分析法中數學校正模型應用的誤區(qū),通過推導并論述盧卡斯-圖恩方程、明確其內涵及一般應用規(guī)律,并建立起行之有效的校正規(guī)則；在不建立特殊數據庫的情況下,對待測樣品中目標元素的熒光強度進行快速校正。選取適當的校正方法將盧卡斯-圖恩方程應用于金川公司冶金樣品中Ni、Cu的定量分析,獲得滿意結果。本研究對實際分析工作具有一定的指導意義。
[Abstract]:In this paper, aiming at the misunderstanding of the application of mathematical correction model in X-ray fluorescence spectrum analysis, the Lukas-Tun equation is deduced and discussed, its connotation and general application rule are clarified, and the effective correction rules are established. The fluorescence intensity of the target element in the sample is corrected quickly without establishing a special database. The Lukas-Tun equation was applied to the quantitative analysis of NiCU in metallurgical samples of Jinchuan Company with satisfactory results. This research has certain guiding significance to the practical analysis work.
【學位授予單位】：蘭州大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2015
【分類號】：TG115

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本文編號：1812577