本文關(guān)鍵詞： 磁流變拋光 迭代誤差 梯度 聚類離散 自適應軌跡　出處：《強激光與粒子束》2015年12期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：針對磁流變拋光過程中拋光軌跡會引入迭代誤差的問題,設(shè)計了步長和行距隨光學表面梯度自適應變化的光柵線拋光軌跡。首先根據(jù)光學元件的表面誤差分布,利用標準五點法獲得面形各點的梯度值,再基于聚類離散思想將所有面形點根據(jù)梯度值大小進行了歸類,從而得到軌跡步長和行距隨面形誤差變化的自適應軌跡。在自研的磁流變加工機床上進行了實驗研究,將一塊直徑50mm的微晶玻璃,從峰谷值為65nm、均方根值為12nm收斂到峰谷值為21nm、均方根值為2.5nm,并且在加工后的表面功率譜密度曲線上沒有出現(xiàn)明顯的尖峰誤差。實驗結(jié)果表明,這種自適應軌跡能有效抑制中高頻誤差。
[Abstract]:In order to solve the problem that iterative error is introduced into the polishing trajectory during magnetorheological polishing (MRF), a grating line polishing trajectory with adaptive change of step size and row spacing with optical surface gradient is designed. Firstly, the error distribution of optical elements is considered. Using the standard five-point method to obtain the gradient values of each point in a plane shape, and then classifying all the points of a plane shape according to the size of the gradient value based on the idea of clustering discretization. The adaptive trajectory of trajectory step size and row spacing varying with the plane shape error was obtained. The experimental study was carried out on the self-developed magnetorheological machining machine. A 50 mm diameter glass-ceramics was obtained from the peak to valley value of 65 nm. The root-mean-square value converges to the peak and valley value of 21 nm and the root mean square value is 2.5 nm, and there is no obvious peak error on the surface power spectral density curve. This adaptive trajectory can effectively suppress the middle and high frequency errors.
【作者單位】： 中國工程物理研究院機械制造工藝研究所;
【基金】：國防基礎(chǔ)科研項目(A1520133005) 中國工程物理研究院“雙百人才工程”課題(K961-15-SRG)
【分類號】：TG580.692
【正文快照】： 磁流變拋光技術(shù)是一種先進的柔性拋光技術(shù),具備實現(xiàn)高面形精度、超光滑與低缺陷等優(yōu)點[1],在強激光光學中有著十分重要而廣闊的應用前景。在磁流變拋光過程中,拋光磨頭是以一定的進給步距(本文為表述方便,將沿拋光輪進給方向的步長和光柵線行距統(tǒng)稱為步距)做進給運動的。由于

【共引文獻】

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【二級參考文獻】

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