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AZ91D鎂合金微弧氧化膜生長(zhǎng)方式的多維探討

發(fā)布時(shí)間:2018-01-17 00:31

  本文關(guān)鍵詞:AZ91D鎂合金微弧氧化膜生長(zhǎng)方式的多維探討 出處:《中國(guó)有色金屬學(xué)報(bào)》2015年03期  論文類(lèi)型:期刊論文


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【摘要】:在硅酸鹽體系電解液中對(duì)AZ91D鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理,使用電子外徑千分尺、渦流測(cè)厚儀、掃描電子顯微鏡(SEM)以及電子探針顯微分析儀(EPMA)對(duì)試樣尺寸、膜層厚度、微觀形貌及所含元素的分布進(jìn)行檢測(cè),采用分界區(qū)直接觀察法、全基體直接測(cè)量法和膜層宏觀測(cè)量計(jì)算法3種方法研究膜層的生長(zhǎng)方式。結(jié)果表明:第一種方法從膜層截面中直接觀察到鎂合金微弧氧化膜的確存在向內(nèi)、向外生長(zhǎng)的現(xiàn)象,為膜層的生長(zhǎng)方式提供了直觀的證據(jù);第二種方法直接、直觀地對(duì)基體和膜層的尺寸變化同時(shí)進(jìn)行觀察與測(cè)量,同樣揭示存在膜層同時(shí)向內(nèi)、向外生長(zhǎng)的現(xiàn)象,且膜層向外的生長(zhǎng)速率大于向內(nèi)的;第3種方法的結(jié)果再次表明膜層存在向內(nèi)、向外生長(zhǎng)的現(xiàn)象,并且不同時(shí)間下膜層向外生長(zhǎng)的尺寸均大于向內(nèi)的尺寸,但膜層整體的生長(zhǎng)速率逐步降低。
[Abstract]:AZ91D magnesium alloy was treated by micro-arc oxidation in the electrolyte of silicate system. The micrometer of electron outer diameter was used to measure the thickness of AZ91D magnesium alloy. Scanning electron microscope (SEM) and EPMA (electron probe microanalyzer) were used to detect the sample size, film thickness, micromorphology and the distribution of the elements. The direct measurement of the whole substrate and the macroscopic measurement of the film layer were used to study the growth mode of the film. The results showed that the first method directly observed that the micro-arc oxide film of magnesium alloy did exist inward from the section of the film. The phenomenon of outward growth provides intuitionistic evidence for the growth mode of the film. The second method directly and intuitively observed and measured the size changes of the substrate and the film layer at the same time. It also revealed the phenomenon of the film growing in and out at the same time, and the growth rate of the outer film was larger than that of the inner one. The results of the third method again show that the film grows inward and outward, and the size of the film growing outward is larger than that of the film at different times, but the growth rate of the whole film decreases gradually.
【作者單位】: 蘭州理工大學(xué)省部共建有色金屬先進(jìn)加工與再利用國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】:甘肅省創(chuàng)新研究群體計(jì)劃資助項(xiàng)目(1111RJDA011)
【分類(lèi)號(hào)】:TG174.4
【正文快照】: 微弧氧化,又稱(chēng)等離子電解氧化、電火花陽(yáng)極氧化以及微等離子氧化,是一種應(yīng)用于鎂、鋁和鈦等輕金屬的表面處理技術(shù)。與其他現(xiàn)有的表面處理技術(shù)相比,微弧氧化處理具有許多優(yōu)點(diǎn),如均鍍能力強(qiáng)、電解液環(huán)境友好、較少或不需要前處理,所得膜層具有優(yōu)良的絕緣性、耐蝕性和耐磨性[1-3]

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前8條

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【共引文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

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5 陳顯明;羅承萍;劉江文;李文芳;;鎂合金微弧氧化膜層形成過(guò)程探討[J];中國(guó)表面工程;2006年05期

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7 吳敏,呂柏林,梁平;鎂及其合金表面處理研究現(xiàn)狀[J];表面技術(shù);2005年05期

8 曾慶圣,何宏輝,霍天成,王天石,何R,

本文編號(hào):1435541


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