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分布式干擾設備空間功率合成模型分析

發(fā)布時間:2021-06-07 20:23
  空間功率合成技術能夠利用多個小功率發(fā)射裝置獲取極大的輻射功率,可解決分布式干擾設備功率不足的問題。建立了分布式干擾設備空間功率合成的信號模型,推導了合成功率的表達式,得出了合成功率由各射頻信號功率之和與功率合成收益組成的結論。分析了信號到達時間差和到達相位差對合成功率的影響,從而得到了分布式干擾設備空間功率合成系統(tǒng)對相位誤差和時延誤差的容忍度。 

【文章來源】:艦船電子工程. 2020,40(02)

【文章頁數(shù)】:4 頁

【部分圖文】:

分布式干擾設備空間功率合成模型分析


圖1 分布式干擾設備空間功率合成示意圖

時間差,功率,信號,基帶信號


圖2為信號到達時間差對合成功率的影響。合成功率為10000次實驗的平均值,每次實驗的基帶信號J(t)均為隨機產(chǎn)生的低通白噪聲,載波頻率為100MHz,假設信號的到達相位保持對準,信號持續(xù)時間為0.1ms,分別對帶寬為10MHz、15MHz、20MHz、30MHz的信號進行了實驗。低通白噪聲的自相關函數(shù)為R(τ)=R(0)×sin c(2πfHτ)[12],其中fH為基帶信號截止頻率。根據(jù)式(8):

功率,相位差,信號


圖3為信號到達相位差對合成功率的影響。合成功率為10000次實驗的平均值,每次實驗的基帶信號均為隨機產(chǎn)生的帶限白噪聲,載波頻率為100MHz,信號帶寬為20MHz,信號持續(xù)時間為0.1ms,分別對信號到達時間差為0ns、20ns、30ns、40ns、50ns、70ns、120ns、270ns的情況進行了實驗。由圖3可知,在0°~180°范圍內,合成功率隨信號到達相位差的增加而不斷下降(僅考慮自相關函數(shù)為正數(shù)的情況)。當0<△θ<90°時,cos △θ>0,功率收益大于零,合成功率大于信號功率之和,當90°<△θ<180°時,cos △θ<0,功率收益小于零,合成信號功率小于信號功率之和。

【參考文獻】:
期刊論文
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[5]空間功率合成技術的合成效率問題研究[J]. 江志浩,蔡德榮,王孜.  無線電通信技術. 2008(02)
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[8]發(fā)展中的分布式干擾技術[J]. 田波,張永順.  航天電子對抗. 2004(01)
[9]短波多站空間功率合成通信干擾技術研究[J]. 齊亞平,朱林芳.  電子對抗. 2000 (03)

碩士論文
[1]空間功率合成中天線陣列的應用研究[D]. 路通.電子科技大學 2009
[2]分布式干擾技術研究[D]. 高軍輝.電子科技大學 2006



本文編號:3217247

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