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液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái)設(shè)計(jì)及初步試驗(yàn)研究

發(fā)布時(shí)間:2017-09-09 16:02

  本文關(guān)鍵詞:液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái)設(shè)計(jì)及初步試驗(yàn)研究


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【摘要】:納米薄膜獨(dú)特的力學(xué)、光學(xué)、電磁學(xué)特性,使其在工程領(lǐng)域內(nèi)被廣泛應(yīng)用。常用的納米薄膜制備方法,無論是物理或化學(xué)氣相沉積法還是電沉積法,都需要以原子級(jí)超光滑表面為襯底,且襯底表面特性對(duì)薄膜質(zhì)量有重要影響。因此,提高襯底表面質(zhì)量對(duì)納米薄膜制備的研究具有重要意義。面向薄膜生長(zhǎng)的襯底表面要求,本文提出了一種液動(dòng)壓懸浮拋光新方法,并在此基礎(chǔ)上搭建了完善的液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái),進(jìn)行了相應(yīng)研究。主要研究工作如下:(1)設(shè)計(jì)并搭建了液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái),主要包括驅(qū)動(dòng)、升降、檢測(cè)和主軸四大系統(tǒng)的主要零部件選型和設(shè)計(jì)校核。利用Ansys Workbench對(duì)平臺(tái)進(jìn)行計(jì)算模態(tài)分析,得到各階固有頻率;對(duì)拋光盤進(jìn)行諧響應(yīng)分析,得到軸向位移、速度、加速度響應(yīng)。結(jié)果顯示一階固有頻率對(duì)軸向響應(yīng)影響最大,但它避開了激振頻率,故拋光平臺(tái)工作可靠;(2)利用錘擊法對(duì)平臺(tái)進(jìn)行試驗(yàn)?zāi)B(tài)分析,通過PolyMAX模態(tài)參數(shù)識(shí)別法獲得平臺(tái)的固有頻率,其結(jié)果與仿真所得相接近,進(jìn)一步驗(yàn)證了仿真模型的準(zhǔn)確性和拋光平臺(tái)的可靠性;(3)設(shè)計(jì)三因素三水平正交實(shí)驗(yàn),利用Kistler六維傳感器研究拋光盤轉(zhuǎn)速、加工間隙、拋光液濃度對(duì)上浮力的影響,對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行極差分析和方差分析,得出對(duì)上浮力影響顯著性大小依次為拋光盤轉(zhuǎn)速,加工間隙,拋光液濃度;(4)以電解銅為加工對(duì)象,使用Nano-MAX研拋機(jī)制備前期試樣,利用搭建的液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái)制備超光滑表面試樣,并通過Wyko、SEM、TEM等表征銅試樣,結(jié)果表明液動(dòng)壓懸浮拋光較傳統(tǒng)機(jī)械拋光可獲得表面粗糙度更小、表面形貌及晶格完整性更好的超光滑表面。本文研究借助仿真與實(shí)驗(yàn)、試樣制備與表征,初步證明了液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái)的可靠性和拋光方法的可行性。
【關(guān)鍵詞】:超光滑表面 液動(dòng)壓懸浮拋光 模態(tài)分析 正交實(shí)驗(yàn) 表征
【學(xué)位授予單位】:浙江工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TG580.692
【目錄】:
  • 摘要5-6
  • ABSTRACT6-10
  • 第1章 緒論10-20
  • 1.1 前言10
  • 1.2 超光滑表面加工技術(shù)10-17
  • 1.2.1 接觸式拋光11-12
  • 1.2.2 非接觸式拋光12-17
  • 1.3 本文研究?jī)?nèi)容及技術(shù)路線17-20
  • 1.3.1 課題來源與本文主要內(nèi)容17
  • 1.3.2 本文研究的技術(shù)路線17-20
  • 第2章 液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái)的設(shè)計(jì)20-30
  • 2.1 拋光平臺(tái)的設(shè)計(jì)要求20-21
  • 2.2 拋光平臺(tái)的設(shè)計(jì)方案21
  • 2.3 拋光平臺(tái)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)21-29
  • 2.3.1 驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)21-23
  • 2.3.2 升降系統(tǒng)的設(shè)計(jì)23-24
  • 2.3.3 檢測(cè)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)24-28
  • 2.3.4 主軸系統(tǒng)的設(shè)計(jì)28-29
  • 2.4 本章小結(jié)29-30
  • 第3章 液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái)的動(dòng)態(tài)特性分析30-42
  • 3.1 有限元分析概述30-31
  • 3.1.1 有限元分析方法及理論30-31
  • 3.1.2 Workbench軟件簡(jiǎn)介31
  • 3.2 拋光平臺(tái)的計(jì)算模態(tài)分析31-37
  • 3.2.1 計(jì)算模態(tài)理論31-32
  • 3.2.2 有限元模型32-33
  • 3.2.3 拋光平臺(tái)的計(jì)算模態(tài)分析33-37
  • 3.3 拋光平臺(tái)的諧響應(yīng)分析37-41
  • 3.3.1 諧響應(yīng)理論37-38
  • 3.3.2 拋光盤諧響應(yīng)分析38-41
  • 3.4 本章小結(jié)41-42
  • 第4章 液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái)的性能測(cè)試試驗(yàn)42-52
  • 4.1 拋光平臺(tái)的試驗(yàn)?zāi)B(tài)分析42-46
  • 4.1.1 試驗(yàn)?zāi)B(tài)激勵(lì)的選擇42
  • 4.1.2 試驗(yàn)?zāi)B(tài)測(cè)試系統(tǒng)組成42-44
  • 4.1.3 試驗(yàn)?zāi)B(tài)識(shí)別方法44
  • 4.1.4 試驗(yàn)?zāi)B(tài)分析44-46
  • 4.2 拋光平臺(tái)的運(yùn)行參數(shù)測(cè)試46-51
  • 4.2.1 正交實(shí)驗(yàn)因素選取46-47
  • 4.2.2 正交實(shí)驗(yàn)47-48
  • 4.2.3 極差分析與方差分析48-50
  • 4.2.4 單因素實(shí)驗(yàn)50-51
  • 4.3 本章小結(jié)51-52
  • 第5章 液動(dòng)壓懸浮拋光試樣制備及其表征52-62
  • 5.1 超光滑表面試樣制備52-55
  • 5.1.1 前期試樣的制備52-54
  • 5.1.2 超光滑表面試樣的制備54-55
  • 5.2 超光滑表面試樣表征55-61
  • 5.2.1 Wyko白光干涉儀測(cè)試分析55-57
  • 5.2.2 SEM測(cè)試分析57-60
  • 5.2.3 TEM測(cè)試分析60-61
  • 5.3 本章小結(jié)61-62
  • 第6章 結(jié)論與展望62-64
  • 6.1 結(jié)論62
  • 6.2 創(chuàng)新點(diǎn)62
  • 6.3 展望62-64
  • 參考文獻(xiàn)64-68
  • 致謝68-70
  • 攻讀學(xué)位期間參加的科研項(xiàng)目和成果70

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 殷琨,,菅志軍,蔣榮慶;大沖擊功液動(dòng)錘的研究及其應(yīng)用[J];探礦工程(巖土鉆掘工程);1996年04期

2 耿瑞倫,馮國(guó)強(qiáng);液動(dòng)錘技術(shù)及其應(yīng)用前景[J];探礦工程(巖土鉆掘工程);2001年01期

3 郭天齡;郭s

本文編號(hào):821391


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