發(fā)布時間：2024-04-21 13:44

　　隨著高強度不銹鋼使用范圍的推廣,其所處的服役環(huán)境也日益多樣化,其面臨的腐蝕的問題也日趨嚴重。對于高強度不銹鋼來說其面臨的腐蝕問題主要包括鈍化、點蝕和晶間腐蝕等。本文以高強度不銹鋼AM355為對象,通過研究馬氏體高強度不銹鋼的鈍化、點蝕和晶間腐蝕機制,為延長高強度不銹鋼使用壽命提供理論指導和數(shù)據(jù)支撐。通過對實驗數(shù)據(jù)的分析,得到以下結(jié)論:通過對高強度不銹鋼AM355在不同pH溶液環(huán)境中電化學行為的影響可以知道,高強度不銹鋼AM355在pH = 1.5-11的溶液中發(fā)生點蝕破壞,而在pH =13的溶液中出現(xiàn)二次鈍化區(qū),并且可以觀察到晶間腐蝕的傾向。高強度不銹鋼AM355上所形成鈍化膜和二次鈍化膜均表現(xiàn)為n型半導體的特征,并且二次鈍化膜的點缺陷濃度大于鈍化膜。通過使用液相原位原子力顯微鏡對高強度不銹鋼AM355點蝕機制的研究可以知道,高強度不銹鋼AM355中MnS-氧化物雙相夾雜物的點蝕敏感性高于其他兩種夾雜物(MnS夾雜和氧化物夾雜)。MnS-氧化物雙相夾雜物的點蝕敏感性源于兩相之間的協(xié)同作用,即MnS優(yōu)先溶解導致的局部環(huán)境酸化促進氧化物/基體邊界區(qū)域的溶解,而在氧化物/基體邊界區(qū)域的不穩(wěn)定...

【文章頁數(shù)】：128 頁

【學位級別】：博士

【部分圖文】：

圖２－１?ＰＤＭ模型界面點缺陷生成和湮滅的反應示意圖??－３?－??

了“純化”現(xiàn)象的存在；１９世紀３０年代Ｓｃｈｏｎｂｅｉｎ和Ｆａｒａｄａｙ對此現(xiàn)象展開??了研宄，Ｓｃｈｏｎｂｅｉｎ創(chuàng)造ｆ?“純化”一詞，而Ｆａｒａｄａｙ將該現(xiàn)象帶入到電化學??領域；直至１９世紀６０年代ｐｏｕｒｂａｉｘ研究出ｐＨ－電位圖譜，才充分的解釋了??該現(xiàn)象發(fā)生的原因。宄其....

圖２－２?Ｆｅ－１５Ｃｒ在０．５Ｍ?Ｈ２Ｓ０４溶液中生成氧化膜的厚度與成膜電位之間的關系??－４?－??

品強度不銹鋼ＡＭ３５５點蝕及晶間腐蝕機理研究??ＰＤＭ模型是描述金屬在液相介質(zhì)中鈍化過程的原子尺度模型，其中包括??了鈍化膜阻擋層間隙中點缺陷的產(chǎn)生和湮滅，如圖２－１所示ＰＤＭ模型??中認為電場強度大小不隨膜層厚度的變化而改變，而是金屬／膜層界面的電壓?、??降隨膜層的生長而下降....

圖２－３金屬表面雙層鈍化膜形成過程圖??

２．１．２鈍化膜結(jié)構(gòu)??大部分研宄表明純化膜是一種雙層膜結(jié)構(gòu)，包括直接由金屬基體上生長??出來的具有缺陷的氧化物構(gòu)成的內(nèi)層和由氫氧化物沉積而成的外層，如圖２－??３所示１９】。也有學者認為可以將鈍化膜分為三層分別是：由Ｆｅ３＋組成的最外??層，Ｆｅ３０４組成的中間層，以及Ｃｒ２０....

圖２－４不銹鋼鈍化膜的納米結(jié)構(gòu)??－

且依據(jù)鈍化膜中成分的差異也可以證明鈍化的雙層結(jié)構(gòu)。??目前，有一些文獻中介紹了不銹鋼鈍化膜外層的納米結(jié)構(gòu)，它們一致認??為不銹鋼鈍化膜由于納米氧化物顆粒構(gòu)成的，如圖２－４所示１２１－２３１。但是這些??報道中關于納米顆粒的尺寸卻沒有一致的結(jié)論（如表２－１所示）。另外，關于??成膜....

本文編號：3960958