鎂合金“導(dǎo)電”耐蝕化學(xué)轉(zhuǎn)化膜研究
發(fā)布時(shí)間:2021-10-26 12:14
鎂合金由于低密度、高比強(qiáng)度和良好的電磁兼容性等優(yōu)點(diǎn)在航空、汽車、3C電子產(chǎn)品中具有非常廣泛的應(yīng)用前景。但是,耐蝕性能差作為鎂合金最大的“短板”仍然是其更廣泛的應(yīng)用的最大的挑戰(zhàn)。表面涂層是提高鎂合金耐蝕性的最有效方法。當(dāng)鎂合金作為承載外殼應(yīng)用于電子設(shè)備領(lǐng)域時(shí),為了滿足電磁兼容性能、防止靜電累積、接地等需求,對鎂合金防護(hù)涂層提出了新的要求:在滿足耐蝕性的前提下,鎂合金表面要具有低接觸電阻的特性;瘜W(xué)轉(zhuǎn)化膜技術(shù)具有廉價(jià)、工藝簡單等優(yōu)點(diǎn),是工業(yè)上應(yīng)用最為廣泛的表面處理技術(shù)。傳統(tǒng)的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜雖然具有高耐蝕性且能滿足“導(dǎo)電”要求,但是Cr(Ⅵ)由于其環(huán)保和健康問題逐漸被禁止使用,因而工業(yè)界對環(huán)保型“導(dǎo)電”耐蝕轉(zhuǎn)化膜的需求非常迫切。針對這個(gè)需求,本論文提出了一種環(huán)保型“導(dǎo)電”耐蝕轉(zhuǎn)化膜的設(shè)計(jì)思路,并在AZ91D鎂合金上得到實(shí)現(xiàn);針對該轉(zhuǎn)化膜中存在的裂紋等缺陷的產(chǎn)生機(jī)制進(jìn)行研究,提出了轉(zhuǎn)化膜裂紋形成新機(jī)制——?dú)渲麻_裂;從材料角度,研究了鎂合金基體晶粒及第二相尺寸變化對轉(zhuǎn)化膜結(jié)構(gòu)和耐蝕性能的影響。根據(jù)接觸電阻在微觀層面的含義及鎂合金腐蝕的特點(diǎn),提出了一種新的“導(dǎo)電”耐蝕轉(zhuǎn)化膜結(jié)構(gòu):將鎂合金中耐蝕性更好...
【文章來源】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:125 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1鉻酸鹽相圖:(a)六價(jià)鉻;(b)三價(jià)鉻??Fig.1.1?Predominance?diagrams?for?Cr?in?theahexavalent?andbtrivalent?oxidation??
圖1.2鎂合金在3C電子產(chǎn)品中的應(yīng)用??Fig.1.2.?Applications?of?magnesium?alloy?in?3C?electronic?products??在鎂合金表面處理技術(shù)中,陽極氧化膜和微弧氧化膜為絕緣膜,金屬鍍層雖??然導(dǎo)電性良好,但是其潛在的電偶腐蝕風(fēng)險(xiǎn)及工藝的復(fù)雜性使其應(yīng)用受到限制??[142]。特定鉻酸鹽轉(zhuǎn)化處理可以滿足“導(dǎo)電”性,但由于其致癌性和環(huán)保問題受??到限制。因而,開發(fā)無鉻“導(dǎo)電”轉(zhuǎn)化膜具有重要意義。同時(shí),轉(zhuǎn)化膜的“導(dǎo)電??性”依賴于膜層的耐蝕性(腐蝕產(chǎn)物在表面的堆積會(huì)導(dǎo)致表面“導(dǎo)電性”的失效),??轉(zhuǎn)化膜的耐蝕性依靠膜層的物理阻隔作用,而轉(zhuǎn)化膜中普遍存在的裂紋是轉(zhuǎn)化膜??失效的主要原因,但是對其形成機(jī)制缺乏深入理解。另外,轉(zhuǎn)化膜是通過鎂合??金基體與轉(zhuǎn)化液之間通過化學(xué)反應(yīng)形成的,因而探索基體顯微組織結(jié)構(gòu)對轉(zhuǎn)化膜??的結(jié)構(gòu)和性能的影響具有重要意義。??綜上所述,本文以鎂合金AZ91D為研宄對象,從以下三個(gè)方面對鎂合金“導(dǎo)??電”耐蝕化學(xué)轉(zhuǎn)化膜展開研究:??(1)從微觀尺度理解“表面導(dǎo)電性”(即接觸電阻)所需要的表面狀態(tài),據(jù)??
接觸電阻測試采用美國軍方標(biāo)準(zhǔn)MIL-DTL-5541F,該標(biāo)準(zhǔn)為美國軍方針對??航空鋁合金鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜接觸電阻測試標(biāo)準(zhǔn)。施加在樣品上的測試壓強(qiáng)為1.44??MPa?(測試面積為lcm2,施加壓力為14.40Kg)。接觸電阻測試儀如圖2.1所示,??由壓力加載裝置(由壓力試驗(yàn)機(jī)實(shí)現(xiàn))、電阻測量儀(微歐計(jì))和電腦控制系統(tǒng)??組成。??■?wjm??m?m?_________?■??刺?iit?電極?——???,脯魄扱絕搛熱??r=T—?_??圖2.1接觸電阻測試儀器??Fig.2.1.?Apparatus?for?electrical?contact?resistance?test??2.4.2電化學(xué)測試??本文的電化學(xué)測試均采用Zahner?Zennium電化學(xué)工作站,測試采用三電極??27??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]先進(jìn)鎂合金材料及其在航空航天領(lǐng)域中的應(yīng)用[J]. 丁文江,付彭懷,彭立明,蔣海燕,王迎新,吳國華,董杰,郭興伍. 航天器環(huán)境工程. 2011(02)
博士論文
[1]鋁含量及前處理對鎂合金及其PEO膜顯微結(jié)構(gòu)和耐蝕性能的影響[D]. 魏芳芳.中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2016
本文編號:3459482
【文章來源】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:125 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1鉻酸鹽相圖:(a)六價(jià)鉻;(b)三價(jià)鉻??Fig.1.1?Predominance?diagrams?for?Cr?in?theahexavalent?andbtrivalent?oxidation??
圖1.2鎂合金在3C電子產(chǎn)品中的應(yīng)用??Fig.1.2.?Applications?of?magnesium?alloy?in?3C?electronic?products??在鎂合金表面處理技術(shù)中,陽極氧化膜和微弧氧化膜為絕緣膜,金屬鍍層雖??然導(dǎo)電性良好,但是其潛在的電偶腐蝕風(fēng)險(xiǎn)及工藝的復(fù)雜性使其應(yīng)用受到限制??[142]。特定鉻酸鹽轉(zhuǎn)化處理可以滿足“導(dǎo)電”性,但由于其致癌性和環(huán)保問題受??到限制。因而,開發(fā)無鉻“導(dǎo)電”轉(zhuǎn)化膜具有重要意義。同時(shí),轉(zhuǎn)化膜的“導(dǎo)電??性”依賴于膜層的耐蝕性(腐蝕產(chǎn)物在表面的堆積會(huì)導(dǎo)致表面“導(dǎo)電性”的失效),??轉(zhuǎn)化膜的耐蝕性依靠膜層的物理阻隔作用,而轉(zhuǎn)化膜中普遍存在的裂紋是轉(zhuǎn)化膜??失效的主要原因,但是對其形成機(jī)制缺乏深入理解。另外,轉(zhuǎn)化膜是通過鎂合??金基體與轉(zhuǎn)化液之間通過化學(xué)反應(yīng)形成的,因而探索基體顯微組織結(jié)構(gòu)對轉(zhuǎn)化膜??的結(jié)構(gòu)和性能的影響具有重要意義。??綜上所述,本文以鎂合金AZ91D為研宄對象,從以下三個(gè)方面對鎂合金“導(dǎo)??電”耐蝕化學(xué)轉(zhuǎn)化膜展開研究:??(1)從微觀尺度理解“表面導(dǎo)電性”(即接觸電阻)所需要的表面狀態(tài),據(jù)??
接觸電阻測試采用美國軍方標(biāo)準(zhǔn)MIL-DTL-5541F,該標(biāo)準(zhǔn)為美國軍方針對??航空鋁合金鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜接觸電阻測試標(biāo)準(zhǔn)。施加在樣品上的測試壓強(qiáng)為1.44??MPa?(測試面積為lcm2,施加壓力為14.40Kg)。接觸電阻測試儀如圖2.1所示,??由壓力加載裝置(由壓力試驗(yàn)機(jī)實(shí)現(xiàn))、電阻測量儀(微歐計(jì))和電腦控制系統(tǒng)??組成。??■?wjm??m?m?_________?■??刺?iit?電極?——???,脯魄扱絕搛熱??r=T—?_??圖2.1接觸電阻測試儀器??Fig.2.1.?Apparatus?for?electrical?contact?resistance?test??2.4.2電化學(xué)測試??本文的電化學(xué)測試均采用Zahner?Zennium電化學(xué)工作站,測試采用三電極??27??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]先進(jìn)鎂合金材料及其在航空航天領(lǐng)域中的應(yīng)用[J]. 丁文江,付彭懷,彭立明,蔣海燕,王迎新,吳國華,董杰,郭興伍. 航天器環(huán)境工程. 2011(02)
博士論文
[1]鋁含量及前處理對鎂合金及其PEO膜顯微結(jié)構(gòu)和耐蝕性能的影響[D]. 魏芳芳.中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2016
本文編號:3459482
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