鎂鍺合金耐腐蝕性能的理論研究
發(fā)布時(shí)間:2020-11-19 13:59
研究鎂合金腐蝕機(jī)制,提高其耐腐蝕性一直是研究熱點(diǎn)之一。本文從熱力學(xué)和動力學(xué)的角度,利用第一性原理計(jì)算,系統(tǒng)的研究了文獻(xiàn)中報(bào)導(dǎo)的耐腐性鎂鍺合金的電偶腐蝕行為,建立了相關(guān)模型,為耐腐蝕鎂合金的設(shè)計(jì)提供了 一定的指導(dǎo)。鎂鍺合金由鎂基體和Mg2Ge第二相組成;诒疚奶岢龅娜芙怆娢荒P秃拖嚓P(guān)界面,功函數(shù)計(jì)算,本文從理論上論證了電偶腐蝕中鎂基體應(yīng)當(dāng)作為陽極溶解,Mg2Ge為陰極析氫。可能溶解在鎂基體中的鍺原子對于鎂基體的功函數(shù)和局部電勢的影響很小,因此它對于鎂基體的陽極溶解行為的影響可以忽略。經(jīng)過計(jì)算,Mg2Ge最穩(wěn)定的表面為(111)面中的一種構(gòu)型。本文分析了該表面上在偏中性和堿性環(huán)境下的析氫過程,計(jì)算了水解能壘,氫原子和羥基吸附能,吸附氫原子擴(kuò)散和結(jié)合成氫氣的能壘等熱力學(xué)和動力參數(shù),給出了 Mg2Ge毒化析氫的理論解釋:析氫反應(yīng)中間態(tài),即氫原子吸附和擴(kuò)散等過程所需要的能量遠(yuǎn)高于Cu,Ni等電極,即能壘很大,阻礙析氫;同時(shí),在沒有過電勢的情況下,羥基的吸附比氫原子的吸附更穩(wěn)定,從而反應(yīng)可能被作為競爭反應(yīng)的羥基吸附所毒化。本文亦為抑制鎂合金的電偶腐蝕提供了一定的設(shè)計(jì)思路:溶解電位模型可以預(yù)測鎂合金中第二相的腐蝕電位,判斷其與鎂基體電偶腐蝕趨勢;功函數(shù)和局部電勢可以用來篩選能抑制鎂基體陽極溶解的溶質(zhì)元素;氫原子,羥基吸附能等參數(shù)可以用來篩選能夠和Mg2Ge類似能毒化陰極反應(yīng)的第二相。
【學(xué)位單位】:上海交通大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位年份】:2018
【中圖分類】:TG146.22
【部分圖文】:
?為了計(jì)算純鎂的表面能與功函數(shù)等表面性質(zhì),需要用到含有表面的slab模型,??如圖2-3所示。同樣經(jīng)過收斂性測試,slab模型中采用9層單原子層,11層單原??子厚度的真空層(?28.5?A)。對于摻雜體系,除了?Li以外,統(tǒng)一采用350?eV??的截?cái)嗄芰,對于Li摻雜體系,采用600?eV的截?cái)嗄芰浚?Slab收斂的電子步和??離子步的收斂精度分別為0.1?meV和1?meV,布里淵區(qū)的采樣密度與體塊相同^??為了獲得精確的能量的態(tài)密度(DOS),以及平滑的靜電勢分布,對她豫好的結(jié)構(gòu)??進(jìn)行靜態(tài)計(jì)算,靜態(tài)計(jì)算電子步的收斂標(biāo)準(zhǔn)為5xlCT5meV,積分方式為Tetrahedron??method?with?Blochl?corrections1471。??20?Atomic?Layers??h?H???^???[0001]??圖2-3純鎂slab表面模型??Figure.2-3?Slab?model?of?pure?Mg??純鎂的表面能y的計(jì)算方式為:??y?=?{E{slab)?—?(2-17)??式中£"(sZaZ))?slab?的能:暑s??n一一slab模型中含有的鎂原子數(shù)目;??KMg)一一鎂原子的化學(xué)勢;??A?表面積。??由于計(jì)算的物質(zhì)為純鎂,所以鎂的化學(xué)勢應(yīng)該等與體塊材料中的鎂等能量4即,??=?iibulk{Mg)?(2.-18)??功函數(shù)0的定義為:??中=中vac?_?Efermi?(2-19)??式中中施:一一庫子層模型(slab)中的真空能;??Efermi?原子辰_模型(slab)申的費(fèi)米能級。??為了避免表面態(tài)的納米效應(yīng)造成的費(fèi)米能彎曲
??狀態(tài),即對應(yīng)圖.2-6(a)的右端>?每個(gè)表面的崔.圖2-6(a)_富鎂狀態(tài)下的表面能和電子??戀合能如表2-3所示合??表2-3?Mg2Ge表面的電子親和能和在富鍰狀態(tài)的表面能??Table.2-3?Electron?affinity?and?surface?energy?under?Mg?rich?condition?of?Mg2Ge?surfaces??(001)?(111)????????(ii〇)????????????(001)Mg?(OQl)Ge?(lll)Mg1?(lll)Mg-?(lll)Ge?? ̄電予盡和?_(eV)?148?4J0?129?2J8?3^8?4J2 ̄??;t:_(J/m2)?1.35?1.45?0.74?0.56?1.59?1.64??2000?(a)?(b)?■?(in)??1800??^(lU^CIeavase?wav??1?丨?400?^^^^100)Geavage??|?(l〇〇)?Mg??^?1200?l^vacT^^^??|?一??…?????1/2?ads??1000?1/3?ads??扣??滅,……‘〔二::二…,………??800?????vac??im??600??(111)?Mg1???Mg?poor?Mg?rich??Chemical?Potential?Of?Mg??@)]^居2〇6(100)
米能級應(yīng)該相同,否則電荷會轉(zhuǎn)移到無限遠(yuǎn)處費(fèi)米能級相同為止。假如鎂鍺合金??中鎂基體和Mg2Ge之間沒有明確的取向關(guān)系時(shí),根據(jù)2.2節(jié)中鎂(0001)面的功函??數(shù)和Mg2Ge各個(gè)表面的電子親合能,可以繪制兩者的能帶關(guān)系,如圖2-7所示。??對于固定指數(shù)的表面,只考慮能量最低的表面結(jié)構(gòu)。??f?fT]?Vacuum?Level??X?\?(111)??少購)?v?????■????(100)??Mg?Mg2Ge??圖2-7不計(jì)界面相互作用下的Mg和Mg2Ge能帶關(guān)系??Figure.2-7?Band?alignment?of?Mg-Mg2Ge?regardless?of?interface?interaction??觀察圖2-7可以發(fā)現(xiàn),由于在2.3節(jié)中提到的Mg2Ge功函數(shù)的各相異性,在??不考慮界面作用下的界面電子轉(zhuǎn)移根據(jù)界面的不同也存在著很大的差異。若按照??難度排序*應(yīng)當(dāng)有(lll)(1.08eV)>(110)(0.37eV)>(100)(0.18eV)。這說明電子在轉(zhuǎn)移??過程中可能也有擇優(yōu)界面,即傾詢于從某些界面轉(zhuǎn)移。Schottky?B
【參考文獻(xiàn)】
本文編號:2890078
【學(xué)位單位】:上海交通大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位年份】:2018
【中圖分類】:TG146.22
【部分圖文】:
?為了計(jì)算純鎂的表面能與功函數(shù)等表面性質(zhì),需要用到含有表面的slab模型,??如圖2-3所示。同樣經(jīng)過收斂性測試,slab模型中采用9層單原子層,11層單原??子厚度的真空層(?28.5?A)。對于摻雜體系,除了?Li以外,統(tǒng)一采用350?eV??的截?cái)嗄芰,對于Li摻雜體系,采用600?eV的截?cái)嗄芰浚?Slab收斂的電子步和??離子步的收斂精度分別為0.1?meV和1?meV,布里淵區(qū)的采樣密度與體塊相同^??為了獲得精確的能量的態(tài)密度(DOS),以及平滑的靜電勢分布,對她豫好的結(jié)構(gòu)??進(jìn)行靜態(tài)計(jì)算,靜態(tài)計(jì)算電子步的收斂標(biāo)準(zhǔn)為5xlCT5meV,積分方式為Tetrahedron??method?with?Blochl?corrections1471。??20?Atomic?Layers??h?H???^???[0001]??圖2-3純鎂slab表面模型??Figure.2-3?Slab?model?of?pure?Mg??純鎂的表面能y的計(jì)算方式為:??y?=?{E{slab)?—?(2-17)??式中£"(sZaZ))?slab?的能:暑s??n一一slab模型中含有的鎂原子數(shù)目;??KMg)一一鎂原子的化學(xué)勢;??A?表面積。??由于計(jì)算的物質(zhì)為純鎂,所以鎂的化學(xué)勢應(yīng)該等與體塊材料中的鎂等能量4即,??=?iibulk{Mg)?(2.-18)??功函數(shù)0的定義為:??中=中vac?_?Efermi?(2-19)??式中中施:一一庫子層模型(slab)中的真空能;??Efermi?原子辰_模型(slab)申的費(fèi)米能級。??為了避免表面態(tài)的納米效應(yīng)造成的費(fèi)米能彎曲
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米能級應(yīng)該相同,否則電荷會轉(zhuǎn)移到無限遠(yuǎn)處費(fèi)米能級相同為止。假如鎂鍺合金??中鎂基體和Mg2Ge之間沒有明確的取向關(guān)系時(shí),根據(jù)2.2節(jié)中鎂(0001)面的功函??數(shù)和Mg2Ge各個(gè)表面的電子親合能,可以繪制兩者的能帶關(guān)系,如圖2-7所示。??對于固定指數(shù)的表面,只考慮能量最低的表面結(jié)構(gòu)。??f?fT]?Vacuum?Level??X?\?(111)??少購)?v?????■????(100)??Mg?Mg2Ge??圖2-7不計(jì)界面相互作用下的Mg和Mg2Ge能帶關(guān)系??Figure.2-7?Band?alignment?of?Mg-Mg2Ge?regardless?of?interface?interaction??觀察圖2-7可以發(fā)現(xiàn),由于在2.3節(jié)中提到的Mg2Ge功函數(shù)的各相異性,在??不考慮界面作用下的界面電子轉(zhuǎn)移根據(jù)界面的不同也存在著很大的差異。若按照??難度排序*應(yīng)當(dāng)有(lll)(1.08eV)>(110)(0.37eV)>(100)(0.18eV)。這說明電子在轉(zhuǎn)移??過程中可能也有擇優(yōu)界面,即傾詢于從某些界面轉(zhuǎn)移。Schottky?B
【參考文獻(xiàn)】
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1 張新;張奎;;鎂合金腐蝕行為及機(jī)理研究進(jìn)展[J];腐蝕科學(xué)與防護(hù)技術(shù);2015年01期
本文編號:2890078
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