天堂国产午夜亚洲专区-少妇人妻综合久久蜜臀-国产成人户外露出视频在线-国产91传媒一区二区三区

當(dāng)前位置:主頁 > 科技論文 > 鑄造論文 >

基于分子動力學(xué)仿真的納米膠體射流拋光材料去除機(jī)理

發(fā)布時間:2018-07-08 08:40

  本文選題:機(jī)理 + 納米膠體; 參考:《中國表面工程》2017年01期


【摘要】:利用分子動力學(xué)模擬了納米Si O2顆粒與單晶硅(100)表面的碰撞過程,以此來分析納米膠體射流拋光的材料去除機(jī)理。仿真結(jié)果顯示:粒徑為7 nm的Si O2顆粒其速度在50 m/s時,與單晶硅工件表面的碰撞作用不會引起工件表面的原子排布的變化;而若要使碰撞對單晶硅工件表面原子排布產(chǎn)生影響,納米Si O2顆粒的速度需大于250 m/s。以單晶硅工件為加工對象進(jìn)行了納米膠體射流拋光加工試驗(yàn)。利用激光拉曼光譜對加工前后單晶硅工件表面原子排布狀況進(jìn)行了比較,其結(jié)果與分子動力學(xué)仿真結(jié)果吻合。利用X射線光電子能譜,研究了加工前后納米Si O2顆粒與單晶硅工件表面原子之間化學(xué)鍵的變化。通過仿真和試驗(yàn)得出:納米膠體射流拋光中,納米顆粒碰撞所產(chǎn)生的機(jī)械作用不能直接去除工件材料,材料的去除是納米顆粒與工件表面之間機(jī)械作用和化學(xué)作用的共同結(jié)果。
[Abstract]:The collision process between nano-SiO _ 2 particles and the surface of monocrystalline silicon (100) was simulated by molecular dynamics to analyze the material removal mechanism of nano-colloidal jet polishing. The simulation results show that when the particle size of Sio _ 2 is at 50 m / s, the collision with the surface of monocrystalline silicon will not result in the change of atomic arrangement on the surface of the workpiece. The velocity of nano-SiO _ 2 particles must be more than 250 m / s for the impact to influence the atomic arrangement on the surface of monocrystalline silicon workpiece. Nano-colloidal jet polishing experiments were carried out on monocrystalline silicon workpiece. The atomic arrangement of monocrystalline silicon workpiece before and after processing was compared by laser Raman spectroscopy. The results are in agreement with the results of molecular dynamics simulation. The changes of chemical bonds between nanocrystalline Sio _ 2 particles and monocrystalline silicon workpiece surface atoms were studied by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Through simulation and experiment, it is concluded that the mechanical action caused by the impact of nanoparticles in the polishing of nano-colloid jet can not directly remove the workpiece material, and the removal of the material is the joint result of the mechanical and chemical action between the nanoparticles and the surface of the workpiece.
【作者單位】: 河南工業(yè)大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院;哈爾濱工業(yè)大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院;
【基金】:國家自然科學(xué)基金(50805039) 河南省教育廳重點(diǎn)科研項(xiàng)目(17A460009)~~
【分類號】:TG580.692

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前7條

1 林廣川;郭丹;解國新;潘國順;;拋光液中離子濃度對化學(xué)機(jī)械拋光過程的影響[J];中國表面工程;2015年04期

2 李靜楠;郭丹;王元元;;基于原子力顯微鏡的納米拋光顆粒的摩擦力測量方法[J];中國表面工程;2012年02期

3 趙志娟;劉芬;趙良仲;;硅晶片上超薄氧化硅層厚度納米尺寸效應(yīng)的XPS研究[J];物理化學(xué)學(xué)報(bào);2010年11期

4 王卓;吳宇列;戴一帆;李圣怡;魯?shù)馒P;徐惠峗;;光學(xué)材料拋光亞表面損傷檢測及材料去除機(jī)理[J];國防科技大學(xué)學(xué)報(bào);2009年02期

5 段芳莉;王家序;雒建斌;溫詩鑄;;納米粒子碰撞下的單晶硅表面非晶相變[J];物理學(xué)報(bào);2007年11期

6 段芳莉,雒建斌,溫詩鑄;納米粒子與單晶硅表面碰撞的反彈機(jī)理研究[J];物理學(xué)報(bào);2005年06期

7 方慧,郭培基,余景池;液體噴射拋光材料去除機(jī)理的研究[J];光學(xué)技術(shù);2004年02期

相關(guān)博士學(xué)位論文 前1條

1 王星;納米膠體空化射流拋光及其關(guān)鍵技術(shù)研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2014年

【共引文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 張玉;徐學(xué)鋒;;顆粒粒徑對射流拋光中材料去除的影響[J];輕工科技;2017年03期

2 王星;張勇;徐琴;崔仲鳴;張飛虎;;基于分子動力學(xué)仿真的納米膠體射流拋光材料去除機(jī)理[J];中國表面工程;2017年01期

3 陶建華;盧永焰;黎達(dá)成;張劍輝;劉曉初;;強(qiáng)化研磨加工中噴頭移動速度對工件表面粗糙度的影響[J];工具技術(shù);2016年08期

4 殷玉春;李玉香;嚴(yán)鴻維;袁曉東;白陽;鄭萬國;;熔石英表面雜質(zhì)元素在酸蝕過程中的變化[J];強(qiáng)激光與粒子束;2016年08期

5 張遠(yuǎn)志;車英;朱萬彬;魯秀娥;;基于微射流拋光系統(tǒng)的溫度精密控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)[J];長春理工大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2016年03期

6 沈明;戴勇;褚聰;葉見領(lǐng);葛滿;袁巧玲;;基于RNGk-ε模型的大曲率彎管的軟性磨粒流加工仿真與實(shí)驗(yàn)[J];液壓氣動與密封;2016年05期

7 羋紹桂;羅銀川;李風(fēng)雨;張蓉竹;楊李茗;;矩形高速流場的材料去除特性[J];強(qiáng)激光與粒子束;2016年07期

8 楊芳玲;王忠;趙洋;張健;;柴油機(jī)等徑顆粒平面碰撞過程凝并特征[J];科學(xué)通報(bào);2016年12期

9 金子嵩;宋云鵬;張金鳳;吳森;;基于原子力顯微鏡的膠體顆粒相互作用力測量研究[J];電子顯微學(xué)報(bào);2016年02期

10 羋紹桂;羅銀川;李風(fēng)雨;張蓉竹;;射流速度和沖擊角度對材料去除特性的分析[J];光學(xué)技術(shù);2016年02期

【二級參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 郭玉龍;郭丹;潘國順;雒建斌;;布線圖案導(dǎo)致的集成電路平坦化損傷研究[J];電子元件與材料;2014年07期

2 王婕;儲向峰;董永平;孫文起;葉明富;白林山;;咪唑?qū)︶懟瘜W(xué)機(jī)械拋光的影響[J];中國表面工程;2013年03期

3 張志堅(jiān);張凡;邱光文;彭茂公;王紅鷹;俞琨;;硅拋光片(CMP)市場和技術(shù)現(xiàn)狀[J];云南冶金;2012年01期

4 湯麗娟;儲向峰;董永平;吳芳輝;白林山;;陰離子對銅化學(xué)機(jī)械拋光的影響[J];微納電子技術(shù);2011年09期

5 陳天星;張向軍;孟永鋼;;原子力顯微鏡摩擦力標(biāo)定的改進(jìn)楔形法[J];中國表面工程;2011年04期

6 龔劍鋒;潘國順;戴媛靜;劉巖;;聚苯乙烯(PS)顆粒拋光液特性對銅表面化學(xué)機(jī)械拋光的影響[J];潤滑與密封;2010年07期

7 王元元;郭丹;;聚苯乙烯納米微球單層膜的制備、表征及其力學(xué)性能的研究[J];中國表面工程;2010年02期

8 宗思邈;劉玉嶺;牛新環(huán);李咸珍;張偉;;藍(lán)寶石襯底材料CMP去除速率的影響因素[J];微納電子技術(shù);2009年01期

9 趙志娟;劉芬;邱麗美;趙良仲;閆壽科;;納米粒子尺寸效應(yīng)引起的內(nèi)層電子結(jié)合能位移[J];物理化學(xué)學(xué)報(bào);2008年09期

10 趙之雯;牛新環(huán);檀柏梅;袁育杰;劉玉嶺;;藍(lán)寶石襯底材料CMP拋光工藝研究[J];微納電子技術(shù);2006年01期

相關(guān)博士學(xué)位論文 前8條

1 張俊杰;基于分子動力學(xué)的晶體銅納米機(jī)械加工表層形成機(jī)理研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2011年

2 羅霄;采用平轉(zhuǎn)動應(yīng)力盤技術(shù)加工超大口徑非球面的研究[D];中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所);2011年

3 宋孝宗;納米顆粒膠體射流拋光機(jī)理及試驗(yàn)研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年

4 李德剛;基于分子動力學(xué)的單晶硅納米加工機(jī)理及影響因素研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2008年

5 郭曉光;單晶硅納米級磨削過程的分子動力學(xué)仿真研究[D];大連理工大學(xué);2008年

6 朱洪濤;精密磨料水射流加工硬脆材料沖蝕機(jī)理及拋光技術(shù)研究[D];山東大學(xué);2007年

7 孫希威;磁流變拋光機(jī)床數(shù)控系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2006年

8 彭小強(qiáng);確定性磁流變拋光的關(guān)鍵技術(shù)研究[D];國防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2004年

【相似文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 鄭敏;;納米膠體體系的分散穩(wěn)定性研究[J];印染助劑;2006年10期

2 李國山;周啟友;劉漢樂;;高密度電阻率法監(jiān)測納米膠體在多孔介質(zhì)中運(yùn)移的實(shí)驗(yàn)[J];地球科學(xué)與環(huán)境學(xué)報(bào);2008年01期

3 湯志云;陳e,

本文編號:2106858


資料下載
論文發(fā)表

本文鏈接:http://www.sikaile.net/kejilunwen/jiagonggongyi/2106858.html


Copyright(c)文論論文網(wǎng)All Rights Reserved | 網(wǎng)站地圖 |

版權(quán)申明:資料由用戶4f24e***提供,本站僅收錄摘要或目錄,作者需要刪除請E-mail郵箱bigeng88@qq.com