本文以電子輔助熱絲化學(xué)氣相沉積（EA-CVD）法制備的石墨烯及自支撐摻硼金剛石（BDD）為主要研究對象,系統(tǒng)地研究了石墨烯的制備方法以及多孔摻硼金剛石（PBDD）的電化學(xué)性能及其在生物傳感器方面的應(yīng)用。首先,本文采用EA-CVD系統(tǒng),鉭片作襯底,甲烷為碳源,硼酸三甲酯為硼源,成功制備了厚度為60μm,晶粒大小為20-30μm的自支撐BDD膜。自支撐BDD膜的生長條件是氫氣與甲烷流量分別為300sccm和6sccm,溫度在850-950℃,時間為45-48h。對于上述自支撐BDD膜,采用直流電弧等離子體噴射CVD法在氫氣/氬氣等離子體的作用下對鎳/BDD復(fù)合膜進行刻蝕制備了PBDD電極,研究了其在生物傳感器方面應(yīng)用的可行性。研究表明,PBDD電極可用于檢測人體血清中尿酸（UA）、多巴胺（DA）及色氨酸（Trp）的含量,其對這三種物質(zhì)的線性濃度范圍為2-50μM,2-100μM,1-80μM,檢測限達到了0.07μM,0.07μM,0.08μM,具有選擇性好,靈敏度高,穩(wěn)定性好和抗干擾能力強的優(yōu)勢。其次,本文采用EA-CVD法制備了一種新型的線狀石墨烯。在鎳的濺射時間為50s,預(yù)處理時間為... 

【文章來源】：天津理工大學(xué)天津市

【文章頁數(shù)】：53 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

金剛石晶體結(jié)構(gòu)示意圖

圖 1.1 為金剛石的 3D 晶體結(jié)構(gòu)示意圖。圖 1.1 金剛石晶體結(jié)構(gòu)示意圖1.2.2 金剛石的性質(zhì)及應(yīng)用（1）金剛石具有優(yōu)異的力學(xué)特性金剛石的力學(xué)特性如表 1.1 所示。由于金剛石具有超強的硬度，可以用來制造切削

圖 1.2 普通 CVD 法沉積金剛石膜示意圖熱絲化學(xué)氣相沉積（EA-CVD）法絲化學(xué)氣相沉積法是成功制備金剛石膜的方法之一。優(yōu)點是設(shè)備簡單，操程和工藝參數(shù)容易控制，可在小面積上沉積金剛石膜，生長速率可達 0.3置由循環(huán)冷卻水系統(tǒng)，燈絲電源，偏壓電源，真空室，旋轉(zhuǎn)工件臺，不變爐壓計等構(gòu)成。金剛石膜在氣源 CH4和 H2的低壓高溫氣氛中生長，為了生長速率和質(zhì)量，在熱絲和基片之間加上直流偏壓，以產(chǎn)生等離子體從而度，熱絲溫度可達 1000℃以上。等離子體的存在也增強了薄膜表面金剛石，可以生長高質(zhì)量的金剛石膜。裝置示意圖如圖 1.3 所示。

【參考文獻】：
期刊論文
[1]石墨烯與關(guān)聯(lián)單壁碳納米管物理特性比較研究[J]. 顏浩然,王利光,TAGAMI K,TSUKADA M.  黑龍江大學(xué)自然科學(xué)學(xué)報. 2009(02)
[2]金剛石膜電極對有機污染物的電催化特性[J]. 趙國華,李明利,吳薇薇,李榮斌,何賢昶.  環(huán)境科學(xué). 2004(05)

碩士論文
[1]功能化石墨烯的制備及電化學(xué)性能研究[D]. 胡江波.東北師范大學(xué) 2012



本文編號：3455245