近年來隨著電子信息行業(yè)的不斷發(fā)展,電子顯示行業(yè)對高端屏顯材料提出愈來愈高的性能要求。電子基板玻璃因具有良好的化學穩(wěn)定性及力學性能,尤其在抗壓、抗摔和抗刮擦表現(xiàn)突出,現(xiàn)已成為屏顯行業(yè)發(fā)展的重要原材料之一。但其在被廣泛應(yīng)用的同時,也存在一些不可避免的問題,未經(jīng)特殊加工處理的電子基板玻璃會發(fā)生光的透射、折射、反射從而產(chǎn)生的強烈眩光,對人的視覺神經(jīng)系統(tǒng)造成嚴重傷害,這是嚴重的光污染問題。本論文采用化學蝕刻法對電子基板玻璃進行蒙砂處理,研制出具有低粗糙度和高光澤度、透光率的超精細蒙砂玻璃,從源頭上解決光污染問題,并對其應(yīng)用性能進行初步研究。本論文以追求蒙砂玻璃表面達到超精細蒙砂標準為研究目標,以電子基板顯示玻璃為研究對象,在了解蒙砂反應(yīng)機理的基礎(chǔ)之上,通過對傳統(tǒng)玻璃蒙砂配方進行改進,探索并研制出適合超精細蒙砂玻璃蒙砂液的組分,通過單因素實驗和正交試驗優(yōu)化蒙砂液各組分的配比,采用控制變量法對超精細玻璃蒙砂的工藝參數(shù)進行分析研究,確定最適合實驗室進行的工藝條件;通過金相顯微鏡、SEM和AFM等方法對超精細蒙砂玻璃的表面形貌進行了測定與分析,并利用能譜儀、粗糙度儀、光澤度儀和透光率和霧度儀對其應(yīng)用效果... 

【文章來源】：陜西科技大學陜西省

【文章頁數(shù)】：77 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖１－２蒙砂工藝流程圖??Ｆｉｇ．?１－２?Ｆｒｏｓｔｉｎｇ?ｐｒｏｃｅｓｓ?ｆｌｏｗ?ｃｈａｒｔ??

?玻璃超精細蒙砂制備工藝的研究???酸：??３ＳｉＦ４＋３Ｈ２Ｏ＾Ｈ２Ｓｉ〇３?＋２Ｈ２ＳｉＦ６?（２－４）??ＳｉＦ４＋２ＨＦ＜－＞Ｈ２ＳｉＦｃ?（２－５）??氟硅酸與硅酸鹽水解產(chǎn)生的氫氧化物相互作用得到氟硅酸鹽：??Ｎａ２Ｓｉ０３＋２Ｈ２０＾２ＮａＯＨ＋Ｈ２Ｓｉ〇３?（２－６）??Ｈ２ＳｉＦ６＋２Ｎａ０Ｈ＾Ｎａ２ＳｉＦ６＋２Ｈ２０?（２－７）??ＣａＳｉ０２＋２Ｈ２Ｏ＜－＞Ｃａ（０Ｈ）２＋Ｈ２ＳｉＯ３?（２－８）??ＨｚＳｉＦ＾ＣａＣＯ＾ｚ－＾ＣａＳｉＦｆｃ＋Ｈ．ＳｉＯ．，?（２－９）??隨著反應(yīng)的進行，Ｎａ２ＳｉＦｆ＾ｌｌ?ＣａＳｉＦ６的量逐漸增多。當Ｎａ２ＳｉＦ６和ＣａＳｉＦ６的量增加??到…定程度，就會在其ＮＨ４＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、ＳＯ，離子強度緩沖液中在有效晶種作用下形成??凸透鏡狀超微晶粒子，這些凸透鏡狀超微晶粒子會沉積在原生玻璃表面，每個超微晶粒??ｆ相當于一個凸透鏡，當強的點光源發(fā)射的眩光透過凸透鏡時，將會轉(zhuǎn)化為柔和的平行??光，這樣，許多超微晶粒子整齊排列在玻璃基面，完全可將透過玻璃的眩光轉(zhuǎn)化為柔和??的平行光，這就是其條件和機理所在。??凸透鏡狀超微晶粒子防眩光機理１６９１如下圖２－１和２－２所示：??超微晶昉眩光機埋??眩光光源?蒙砂波誦?柔和平行光??圖２－１超微晶粒子防點光源眩光機理??Ｆｉｇ．?２－１?Ｕｌｔｒａｆｉｎｅ?ｇｒａｉｎ?ａｎｔｉ－ｇｌａｒｅ?ｏｆ?ｐｏｉｎｔ?ｍｅｃｈａｎｉｓｍ??１１??

?陜西科技大學碩士學位論文???超微晶防眩光機理??眩光光源?蒙砂玻丨Ｉ?柔和的平行光??圖２－２超微晶粒子層防面光源眩光機理??Ｆｉｇ．?２－２?Ｕｌｔｒａｆｉｎｅ?ｇｒａｉｎ?ａｎｔｉ－ｇｌａｒｅ?ｏｆ?ｌａｙｅｒ?ｍｅｃｈａｎｉｓｍ??２．３實驗原料及實驗設(shè)備??本實驗中所需原料如下表２－１所示：??表２－１實驗所需原料表??Ｔａｂｌｅ?２－１?Ｌｉｓｔ?ｏｆ?ｍａｔｅｒｉａｌｓ?ｒｅｑｕｉｒｅｄ?ｆｏｒ?ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔ??序號?藥品名稱?化學式?藥品級別?生產(chǎn)廠家???１?氟化鈉?ＮａＦ?ＡＲ?天津市天力化學試劑有限公司??２?氟化鉀?ＫＦ?ＡＲ?天津市天力化學試劑有限公司??３?氟化鈣?ＣａＦ２?ＡＲ?天津市科密歐化學試劑有限公司??４?氟化銨?ＮＨ４Ｆ?ＡＲ?天津市科密歐化學試劑有限公司??５?氟化氫銨?ＮＨ４ＨＦ２?ＡＲ?天津市科密歐化學試劑有限公司??６?硫酸鉀?Ｋ２Ｓ０４?ＡＲ?天津市天力化學試劑有限公司??７?硫酸鋇?ＢａＳ０４?ＡＲ?天津市天力化學試劑有限公司??８?硫酸銨?（ＮＨ４）２Ｓ０４?ＡＲ?天津市天力化學試劑有限公司??９?六偏磷酸鈉?（ＮａＰ０３）６?ＡＲ?天津市天力化學試劑有限公司??１０?草酸?Ｈ２Ｃ２０４?ＡＲ?天津市科密歐化學試劑有限公司??１１?濃硫酸?Ｈ２Ｓ〇４?ＡＲ?國藥集團化學試劑有限公司??１２?濃鹽酸?ＨＣ１?ＡＲ?國藥集團化學試劑有限公司???１２??

【參考文獻】：
期刊論文
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碩士論文
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本文編號：3367026