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電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)尾氣中無(wú)定型硅的產(chǎn)生原因及預(yù)防措施

發(fā)布時(shí)間:2021-06-05 08:18
  文章通過(guò)分析SiHCl3氫還原與尾氣回收工藝過(guò)程,尋找伴生無(wú)定型硅生成的客觀原因;根據(jù)無(wú)定型硅少產(chǎn)生、早攔截的原則,提出電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)中無(wú)定型硅的預(yù)防措施,可以有效減少無(wú)定型硅的產(chǎn)生,提高氣相沉積過(guò)程循環(huán)氫氣純度,進(jìn)而提升電子級(jí)多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量。 

【文章來(lái)源】:化工管理. 2020,(34)

【文章頁(yè)數(shù)】:2 頁(yè)

【部分圖文】:

電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)尾氣中無(wú)定型硅的產(chǎn)生原因及預(yù)防措施


尾氣工裝

對(duì)比圖,尾氣,工裝,對(duì)比圖


為進(jìn)一步加強(qiáng)尾氣工裝對(duì)無(wú)定型硅的去除效果,通過(guò)改造尾氣工裝的周向孔結(jié)構(gòu)的內(nèi)部流道。尾氣工裝可以選用迷宮式結(jié)構(gòu)(見圖2),利用還原爐內(nèi)尾氣在迷宮結(jié)構(gòu)上升流動(dòng)過(guò)程中的沉降作用,以及尾氣流向急轉(zhuǎn)的過(guò)程硅顆粒與尾氣工裝的壁面進(jìn)行慣性碰撞,可以留下較大的硅顆粒物,也就避免了硅渣被帶出還原爐,進(jìn)而避免了尾氣系統(tǒng)受到污染。無(wú)定型硅爐外凈化,采用現(xiàn)有的氣固分離技術(shù),即機(jī)械式分離、濕法分離、電除塵以及過(guò)濾器。其中機(jī)械式分離器的凈化粒級(jí)范圍窄,效率不高;因還原尾氣組分Si HCl3和Si Cl4極易水解產(chǎn)生腐蝕性介質(zhì),所以濕法分離器不適用;電除塵器受工況的影響較大,因電除塵器的占地面積較大,設(shè)備制造、安裝和維護(hù)過(guò)程中的管理水平要求高,所以電除塵器的投資偏高,而且運(yùn)行中容易發(fā)生存在靜電聚集現(xiàn)象,存在一定安全隱患。所以還原爐外凈化無(wú)定型硅常用方式是使用過(guò)濾器,過(guò)濾器廣泛應(yīng)用在高溫氣體凈化方面,不僅因其過(guò)濾材料的耐熱性能好,還因?yàn)閷?duì)于顆粒攔截的效果良好,主要有袋式過(guò)濾、顆粒床過(guò)濾、多孔陶瓷過(guò)流以及多孔金屬材料過(guò)濾,尤其是金屬燒結(jié)過(guò)濾器(見圖3),在耐熱性能、力學(xué)性能、焊接性能、加工性能和導(dǎo)熱性能等方面均有一定優(yōu)勢(shì)。

除塵器,金屬,過(guò)濾器


無(wú)定型硅爐外凈化,采用現(xiàn)有的氣固分離技術(shù),即機(jī)械式分離、濕法分離、電除塵以及過(guò)濾器。其中機(jī)械式分離器的凈化粒級(jí)范圍窄,效率不高;因還原尾氣組分Si HCl3和Si Cl4極易水解產(chǎn)生腐蝕性介質(zhì),所以濕法分離器不適用;電除塵器受工況的影響較大,因電除塵器的占地面積較大,設(shè)備制造、安裝和維護(hù)過(guò)程中的管理水平要求高,所以電除塵器的投資偏高,而且運(yùn)行中容易發(fā)生存在靜電聚集現(xiàn)象,存在一定安全隱患。所以還原爐外凈化無(wú)定型硅常用方式是使用過(guò)濾器,過(guò)濾器廣泛應(yīng)用在高溫氣體凈化方面,不僅因其過(guò)濾材料的耐熱性能好,還因?yàn)閷?duì)于顆粒攔截的效果良好,主要有袋式過(guò)濾、顆粒床過(guò)濾、多孔陶瓷過(guò)流以及多孔金屬材料過(guò)濾,尤其是金屬燒結(jié)過(guò)濾器(見圖3),在耐熱性能、力學(xué)性能、焊接性能、加工性能和導(dǎo)熱性能等方面均有一定優(yōu)勢(shì)。3 結(jié)語(yǔ)

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]多晶硅無(wú)定型硅粉形成原因及控制[J]. 宋張佐.  云南化工. 2019(01)
[2]改良西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝設(shè)計(jì)探討[J]. 楊濤.  貴州化工. 2009(03)
[3]改良西門子法多晶硅生產(chǎn)中分離工藝的改進(jìn)[J]. 溫雅,胡仰棟,單廷亮.  化學(xué)工業(yè)與工程. 2008(02)



本文編號(hào):3211795

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