發(fā)布時(shí)間：2021-05-14 07:39

　　以多壁碳納米管（MWCNTs）為基質(zhì)、殼聚糖（CS）為功能單體、Ni（Ⅱ）離子為模板、戊二醛為交聯(lián)劑,采用靜電自組裝法制備了鎳離子印跡材料MIIPs。采用SEM、XRD、FTIR及TG對(duì)其結(jié)構(gòu)和性能進(jìn)行了表征,采用丁二酮肟可見分光光度法對(duì)印跡聚合物的吸附性能進(jìn)行了考察。結(jié)果表明;殼聚糖成功地接枝到碳納米管表面,并且印跡材料對(duì)Ni（Ⅱ）具有選擇吸附性能,化學(xué)吸附過(guò)程符合準(zhǔn)二級(jí)吸附動(dòng)力學(xué)模型,平衡吸附量為32.20mg/g,競(jìng)爭(zhēng)離子Pb（Ⅱ）和Cu（Ⅱ）存在時(shí),Ni（Ⅱ）/Pb（Ⅱ）和Ni（Ⅱ）/Cu（Ⅱ）的選擇系數(shù)分別為11.27和9.22。 

【文章來(lái)源】：精細(xì)化工. 2017,34(11)北大核心EICSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：7 頁(yè)

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)部分
    1.1試劑與儀器
    1.2 羧基化碳納米管的制備
    1.3 碳納米管印跡聚合物的制備
    1.4 離子印跡聚合物的吸附性能
        1.4.1 標(biāo)準(zhǔn)曲線的繪制
        1.4.2 平衡吸附量 (qe) 的測(cè)試
        1.4.3 印跡與非印跡碳納米管復(fù)合吸附材料的吸附性能測(cè)試
        1.4.4 離子印跡材料吸附動(dòng)力學(xué)
        1.4.5 平衡吸附量及脫附率的計(jì)算公式
    1.5 測(cè)試與表征
2 結(jié)果與討論
    2.1 FTIR分析
    2.2 X-射線衍射分析
    2.3 熱重分析
    2.4 掃描電鏡分析
    2.5 吸附性能研究
        2.5.1 平衡吸附量測(cè)試
        2.5.2 結(jié)合動(dòng)力學(xué)
        2.5.3 選擇性吸附
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]碳基質(zhì)新型離子印跡聚合物的制備及離子識(shí)別性能研究[J]. 郭明,王春歌,姚珊珊,馬燕飛,李銘慧,金春德.  高校化學(xué)工程學(xué)報(bào). 2015(04)
[2]基于殼聚糖修飾碳納米管表面鉛離子印跡材料的制備及其性能研究[J]. 楊瀟,張朝暉,張華斌,張明磊,胡宇芳,羅麗娟,聶麗華.  分析化學(xué). 2011(01)



本文編號(hào)：3185263