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銅離子印跡聚合物的制備及性能研究

發(fā)布時間:2017-12-23 19:00

  本文關鍵詞:銅離子印跡聚合物的制備及性能研究 出處:《高分子通報》2016年10期  論文類型:期刊論文


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【摘要】:在乙醇溶液中,以Cu(Ⅱ)為模板分子,二甲基丙烯酸乙二醇酯為交聯(lián)劑采用分散聚合法制備銅離子印跡聚合物(Cu~(2+)-IIP),并通過傅里葉變換紅外光譜、紫外光譜對聚合物的結構及性能進行了表征?疾炝宋綍r間、溶液初始濃度、pH值等因素對聚合物吸附性能的影響。實驗表明,室溫條件下,在pH=6,90min吸附達到平衡,其最大吸附量為1.42mmol/g;與非印跡聚合物相比,印跡聚合物有較大的吸附量及較好的選擇性。因此,印跡聚合物在固相萃取、水處理等方面具有很好的應用前景。
【作者單位】: 北京化工大學;北京石油化工學院;
【分類號】:O631.3
【正文快照】: 分子印跡技術又稱分子模板技術或烙印技術,是指以特定的目標分子為模板,通過聚合反應合成對該目標分子具有特異選擇性的聚合物的一項技術。分子印跡源于免疫學,1972年Wulff等[1]首次報道了第一個人工合成印跡聚合物。離子印跡技術是分子印跡技術的分支。離子印跡聚合物(Ion im

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本文編號:1325076


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