季銨鹽修飾碳基復合材料的制備及其電容去離子殺菌性能
發(fā)布時間:2022-01-20 00:07
清潔水資源的缺乏是威脅人類生命健康的重大挑戰(zhàn)之一。盡管目前常用的如氯氣、臭氧和紫外線等消毒殺菌技術(shù)可以高效的殺死飲用水中的致病微生物,但是這些方法也會產(chǎn)生對人類健康有害的消毒副產(chǎn)物。因此,亟需開發(fā)新型無消毒副產(chǎn)物、低毒性、低能耗和高殺菌效率的飲用水殺菌技術(shù)。電容去離子技術(shù)(Capacitive deionization,CDI)是一類苦咸水淡化的新興技術(shù),因其具有高能量效率和環(huán)境友好性等優(yōu)點成為人們的研究熱點。電容去離子殺菌技術(shù)(Capacitive deionization disinfection,CDID)將CDI應用于殺菌消毒領域,其關(guān)鍵問題在于電極材料的修飾。季銨鹽化合物(Quaternary ammonium compound,QAC)因具有接觸殺菌活性及廣譜高效的殺菌性能作為一類高效的殺菌材料已經(jīng)得到了廣泛應用。本文以QAC作為殺菌活性材料,修飾CDI常用碳電極材料,并將其作為電極的陽極材料應用于CDID中,主要研究內(nèi)容和結(jié)論如下:(1)采用季銨化聚(4-乙烯基吡啶)修飾的活性炭作為電容去離子殺菌技術(shù)的陽極材料。通過調(diào)控反應單體和季銨化試劑的添加量制備了17.07%和22...
【文章來源】:大連理工大學遼寧省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:68 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
自2000年以來在CDI領域發(fā)表的同行評審論文數(shù)量以及2006年和2016年幾個國家的CDI領域論文數(shù)量的比較
- 4 -圖 1.2 CDI 操作和非法拉第過程概述[37]Fig. 1.2 Overview of CDI operation and non-Faradaic capacitive processes in CDI[37]
圖 1.3 Gouy–Chapman–Stern 模型電荷分布Fig. 1.3 Distribution of charge in the Gouy–Chapman–Stern mo
本文編號:3597821
【文章來源】:大連理工大學遼寧省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:68 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
自2000年以來在CDI領域發(fā)表的同行評審論文數(shù)量以及2006年和2016年幾個國家的CDI領域論文數(shù)量的比較
- 4 -圖 1.2 CDI 操作和非法拉第過程概述[37]Fig. 1.2 Overview of CDI operation and non-Faradaic capacitive processes in CDI[37]
圖 1.3 Gouy–Chapman–Stern 模型電荷分布Fig. 1.3 Distribution of charge in the Gouy–Chapman–Stern mo
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