分子印跡技術(shù)（molecular imprinting technique,MIT）是指制備出對目標分子具有特異性識別功能聚合物（molecularly imprinted polymers,MIPs）的一項較為成熟的技術(shù)。分子印跡聚合物具有適用范圍廣、可塑性強、穩(wěn)定性好和選擇性好等優(yōu)點,特別是其高度交聯(lián)的剛性基質(zhì)極其有利于特定識別位點地形成,并能夠選擇性地與檢測分子結(jié)合,達到對目標檢測分子選擇性識別的目的。量子點（quantum dots,QDs）是一類具有獨特尺寸依賴性的準零維納米晶粒,具有熒光強度高、半寬窄、穩(wěn)定性好等優(yōu)點,以量子點為發(fā)光源制備的新型分子印跡熒光傳感器將同時具備量子點優(yōu)良的光學(xué)性能和分子印跡的高選擇性,對于特異性識別復(fù)雜體系中高危污染因子具有實際意義�？股睾头宇愑袡C物是環(huán)境中常見的高危污染物,化工生產(chǎn)過程中廢水處理不當、原料運輸過程中泄漏和欠發(fā)達地區(qū)醫(yī)學(xué)用藥不規(guī)范等都會使高危污染物流入環(huán)境中,對水環(huán)境系統(tǒng)和人體健康造成巨大的危害。氯霉素對人體造血系統(tǒng)存在影響,會引起一系列癥狀,如發(fā)育不全、再生障礙性貧血、血小板和白細胞減少等。酚類污染物會導(dǎo)致動物和人體生殖器障礙... 

【文章來源】：浙江師范大學(xué)浙江省

【文章頁數(shù)】：96 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

常見的功能單體

子從二氧化硅基質(zhì)中洗脫，即在二氧化硅基質(zhì)中形成了與模狀相互匹配和化學(xué)性質(zhì)互補的識別位點。Figure 2.1 Fluorescence and absorption spectrum of CdTe QDs圖 2.1 CdTe QDs 熒光光譜和紫外吸收光譜圖

分子印跡二氧化硅微球包覆 CdSe@CdS QDs 的新型熒光傳感器及其對 2，4，6-三氯苯酚檢 MIP@SiO2@QDs的合成及表征 3.4 為分子印跡聚合物的合成路線。介孔二氧化硅材料，具有良好和多孔結(jié)構(gòu)，在吸附有機染料和生物分子等方面具有廣泛的應(yīng)用，烷作為 MIP@SiO2@QDs 的表面材料。在此研究中，以 3-氨基丙基烷（APTS）為功能單體對 2，4，6-三氯苯酚（模板）進行印跡。首 修飾到 QDs 表面，使 2，4，6-三氯苯酚可以通過氫鍵相互作用自發(fā)s 表面，隨后 APTS 與正硅酸乙酯（TEOS）在氨水地催化下發(fā)生烷經(jīng)水解得到二氧化硅層并且將模板分子固定在二氧化硅內(nèi)。最后利模板分子從二氧化硅層中洗脫，同時在二氧化硅層高度交聯(lián)的剛性與模板分子大小、形狀相互匹配和化學(xué)性質(zhì)互補的識別位點。

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3226520